金属-配位子間多重結合を有する反応性金属クラスターの創成
创建具有多个金属-配体键的反应性金属簇
基本信息
- 批准号:19027050
- 负责人:
- 金额:$ 1.6万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
- 财政年份:2007
- 资助国家:日本
- 起止时间:2007 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
2核ルテニウムアミド/イミド錯体の化学をホヌフィド/ホスフィニデン系へと展開した。本研究の準備段階ですでに得られていた配位不飽和2核ルテニウムアミド錯体Cp*Ru(μ_2-NHPh)_2RuCp*(Cp^*=η^5-C_5M_e_5)を合成する反応をふまえ,[Cp^*Ru(η_3-CI)]_4(1)をLiPHPh(bu/P=1/1)と反応させたが,対応するホスフィド錯体Cp^*Ru(μ_2-PHPh)_2RuCp^*を効率よく得ることは困難であった。一方,1とPH_2Phとからまず単核錯体Cp_*RuCl(PH_2Ph)_2を調製し,ついでこれをN_aN(SiMe_3)_2で処理して脱塩化水素を行うという2段階の反応により,配位飽和2核錯体Cp*(PH_2Ph)Ru(μ_2-PHPh)2Ru(PH_2Ph)Cp* (2)がシス体とトランス体の混合物として得られることを見出した。次いで,2のルテニウムーリン間への多重結合の導入を検討した。2は[Cp2Fe]Otfにより速やかに2電子酸化され,ジカチオン性錯体[Cp*(PH2Ph)Ru(k_PHPh)_2Ru(PH2Ph)Cp^*IOTf(3)を与えた。さらに3をNaN(SiMe_3)_2で処理すると,末端ホスフィン配位子からの脱プロトン化にひき続いて2核サイト上でのP-P結合生成反応が速やかに進行し,ジホ不フィン錯体Cp*Ru(k^2:μPhPHPHPh)_2(μ_2-PHPh)_2RuCp*(4)が選択的に生成することを見出した。4に対してさらに酸化/脱プロトン化を行なうと,ルテニウムーリン間およびリンーリン間に多重結合性を有する2核ルテニウムジホスフェン錯体Cp*Ru(k^2:μ2-PhPPPh)_2(μ_2-PHPh)_2RuCp* (5)が生成することも判明した。2,4についてX線解析を行い,構造の詳細を明らかにした。
双核钌酰胺/酰亚胺配合物的化学发展为honufide/phosphinidene系统。基于本研究前期已获得的配位不饱和双核钌酰胺配合物Cp*Ru(μ_2-NHPh)_2RuCp*(Cp^*=η^5-C_5M_e_5)的合成反应,[ Cp ^* Ru(η_3-CI)]_4(1)与LiPHPh(bu/P=1/1)反应,但难以高效得到相应的磷化物配合物Cp^*Ru(μ_2-PHPh)_2RuCp^*。很困难。另一方面,配位饱和 2 核配合物 Cp*(PH_2Ph)Ru(μ_2-PHPh)2Ru(PH_2Ph)Cp*我们发现(2)是作为顺式和反式形式的混合物获得的。接下来,我们研究了2中钌和磷之间多重键的引入。 2 被 [Cp2Fe]Otf 用两个电子快速氧化,得到双阳离子配合物 [Cp*(PH2Ph)Ru(k_PHPh)_2Ru(PH2Ph)Cp^*IOTf(3)。此外,当3用NaN(SiMe_3)_2处理时,末端膦配体去质子化后,双核位点上的P-P键形成反应迅速进行,产生二膦配合物Cp*Ru(我们发现k^2:μPhPHPHPh )_2(μ_2-PHPh)_2RuCp*(4) 是选择性生成的。 4的进一步氧化/去质子化产生双核钌二膦络合物Cp*Ru(k^2:μ2-PhPPPh)_2(μ_2-PHPh),其在钌与磷之间以及磷与磷之间具有多重键合特性,还发现_2RuCp。 * 生成(5)。对2和4进行X射线分析以阐明其结构细节。
项目成果
期刊论文数量(4)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
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- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Kamikawa;K.; Kinoshita;S.; Furusho;M.; Takemoto;S.; Matsuzaka;H.
- 通讯作者:H.
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- DOI:10.1021/jo0711586
- 发表时间:2007-09-14
- 期刊:
- 影响因子:3.6
- 作者:Kamikawa, Ken;Takemoto, Ippei;Matsuzaka, Hiroyuki
- 通讯作者:Matsuzaka, Hiroyuki
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- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Takemoto;S.; Kamikawa;K.; Matsuzka;H.
- 通讯作者:H.
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