シリルロジウム種を触媒活性種とする触媒反応の開発
使用甲硅烷基铑物质作为催化活性物质的催化反应的发展
基本信息
- 批准号:20036035
- 负责人:
- 金额:$ 2.82万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
- 财政年份:2008
- 资助国家:日本
- 起止时间:2008 至 2009
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
ロジウム触媒存在下、芳香族ニトリル類とジシランやヒドロシランを反応させると炭素-シアノ基が切断し、シリル化あるいは還元反応が進行することを見いだした。これらの反応は、鍵過程として、炭素-シアノ結合を切断しシアノ基をロジウム種に変換する素過程を含んでいる。そこで、発生した芳香族ロジウム錯体およびイミノアシル錯体の捕捉実験をおこなったところ、ジベンゾシロール誘導体が生成することを見い出した。この反応は、炭素-ケイ素結合の中でももっとも不活性なメチル-ケイ素結合の切断を含んでいる。そこで、この反応のさらなる展開として、オルトーシリルフェニルボロン酸とアルキンとを反応させることで、2成分カップリングへの応用を検討したところ、期待通りベンゾシロールが効率的に生成することがわかった。種々の内部アルキンが適用可能であり、多様なベンゾシロール誘導体を一挙に合成することができる。反応機構的にも興味ある反応経路を経ているが、その物性にも興味がもたれる。シロールは、有機半導体材料として注目されている化合物であり、実用化されているものもある。しかし、これまでのシロール研究はもっぱら単環型シロールを用いたものであり、縮環型シロールの研究例は極めて少ない。本反応は、ロジウム触媒反応であるため、従来の強塩基や強還元剤を用いる手法とは対照的に、幅広い官能基が共存可能であり、誘導体合成に優れた手法である。実際、官能基選択性はきわめて高い。
我们发现,当芳族腈与乙硅烷或氢硅烷在铑催化剂存在下反应时,碳-氰基基团被裂解,并发生甲硅烷基化或还原反应。这些反应的关键步骤包括断裂碳-氰基键并将氰基转化为铑物质的基本步骤。因此,我们进行了实验来捕获生成的芳香族铑配合物和亚氨基酰基配合物,并发现形成了二苯并硅杂环衍生物。该反应涉及甲基硅键的断裂,甲基硅键是碳硅键中最惰性的。因此,作为该反应的进一步发展,我们通过邻甲硅烷基苯基硼酸与炔的反应研究了其在双组分偶联中的应用,并发现苯并硅杂环戊二烯按预期有效地生成。适用于各种内炔烃,可一次性合成各种苯并硅杂环衍生物。尽管该反应路线在反应机理方面很有趣,但其物理性质也很有趣。噻咯是作为有机半导体材料而受到关注的化合物,并且一些化合物已经投入实际应用。然而,迄今为止对噻咯的研究仅使用单环噻咯,而对稠合噻咯的研究实例很少。由于该反应是铑催化的反应,与使用强碱或强还原剂的常规方法相比,多种官能团可以共存,使其成为衍生物合成的优异方法。事实上,官能团选择性极高。
项目成果
期刊论文数量(6)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Catalytic Reactions Involving Activation of Unreactive Bonds
涉及非反应性键活化的催化反应
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:藤原哲晶;吉田昌平;太田英俊;寺尾潤;辻康之;Masahito Ochiai;Masahito Ochiai;大久保琢爾;河野由布子;山下泰生;山根真一;長谷川雄一;土井龍輔;吉村祥;落合正仁;宮本和範;Akira Yoshimura;大久保琢爾;酒井祐太;河野由布子;酒井祐太;宮本和範;河野由布子;吉村祥;内藤将夫;大久保琢爾;大久保琢爾;宮本和範;吉村祥;酒井祐太;内藤将夫;Masahito Ochiai;林聡子;中村友美;宮本和範;吉村祥;大久保琢爾;宮本和範;中野愛子;廣部雅也;宮本和範;Masahito Ochiai;吉村祥;大久保琢爾;中野愛子;内藤将夫;廣部雅也;落合正仁;Masaya Hirobe;N.Chatani;N. Chatani;N. Chatani;N.Chatani
- 通讯作者:N.Chatani
Catalytic Transformations Involving the Cleavage of C-H Bonds and C-C Bonds
涉及 C-H 键和 C-C 键断裂的催化转化
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:藤原哲晶;吉田昌平;太田英俊;寺尾潤;辻康之;Masahito Ochiai;Masahito Ochiai;大久保琢爾;河野由布子;山下泰生;山根真一;長谷川雄一;土井龍輔;吉村祥;落合正仁;宮本和範;Akira Yoshimura;大久保琢爾;酒井祐太;河野由布子;酒井祐太;宮本和範;河野由布子;吉村祥;内藤将夫;大久保琢爾;大久保琢爾;宮本和範;吉村祥;酒井祐太;内藤将夫;Masahito Ochiai;林聡子;中村友美;宮本和範;吉村祥;大久保琢爾;宮本和範;中野愛子;廣部雅也;宮本和範;Masahito Ochiai;吉村祥;大久保琢爾;中野愛子;内藤将夫;廣部雅也;落合正仁;Masaya Hirobe;N.Chatani;N. Chatani;N. Chatani;N.Chatani;N.Chatani
- 通讯作者:N.Chatani
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