電子移動によるケイ素-ケイ素結合の開裂と新規ケイ素-異原子間結合の形成

通过电子转移裂解硅-硅键并形成新的硅-杂原子键

• 批准号: 09239251
• 负责人: 柏村 成史
• 金额: $ 1.28万
• 依托单位: Kinki University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 1997
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1997 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-09239251/
• 关键词: ポリシラン; オリゴシラン; 電極還元; 反応成電極; ケイ素-異原子結合; ポリシラン; オリゴシラン; 電極還元; 反応成電極; ケイ素-異原子結合

本研究では、反応性電極を用いた電極還元反応においてSi-Si結合が開裂し、活性なシリルアニオン種が発生することを見出した。特に、オリゴシランを形成するケイ素連鎖の数により結合開裂の傾向が異なり、電極還元法を用いることで、この差異を積極的に利用して、位置選択的に結合切断を行うことができることが明らかになった。また、このようにして発生させたシリルアニオン種を求核剤とすることで、新規ケイ素-ケイ素結合、ケイ素-ゲルマニウム結合、および、ケイ素-炭素結合形成反応が起こることを見出した。この方法の開発により、従来に例を見ない全く新しいタイプのポリシランを合成出来るだけでなく、シラン-ゲルマン共重合体を合成することも可能になった。また、電極還元反応により生成するシリルアニオンの再結合反応をも見出したが、この反応を利用すると、ポリシランや、シラン-ゲルマン共重合体の分子量を顕著に向上出来ることも明らかになった。さらに、ヒドロシラン類の電極還元重合反応により、構造規制を行ったポリシランを高収率で合成することにも成功した。

在这项研究中，我们发现使用反应性电极在电极还原反应过程中切割的Si-Si键导致活性水硅烷阴离子的产生。特别是，键裂解的趋势取决于形成寡硅烷的硅链的数量，并且已经揭示出，通过使用电极还原方法，可以主动使用这种差异来执行区域选择性键裂解。还发现，以这种方式产生的水莲阴离子会导致新型的硅 - 硅质键，硅 - 德国键和硅碳键形成反应。这种方法的开发不仅可以合成前所未有的全新类型的多硅烷，而且可以合成硅烷 - 荷兰共聚物。此外，还发现了由电极还原反应形成的水硅烷阴离子的重组反应，并且已经发现使用该反应可显着改善多硅烷和硅烷 - 果皮共聚物的分子量。此外，它还成功地通过氢硅烷的电极还原聚合反应来合成与结构调节的多硅烷相结合的多硅烷。