Precise position control of silicon quantum dots and fabrication of quantum information devices.
硅量子点的精确位置控制和量子信息器件的制造。
基本信息
- 批准号:22246040
- 负责人:
- 金额:$ 31.2万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
- 财政年份:2010
- 资助国家:日本
- 起止时间:2010 至 2012
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
We have fabricated silicon-based quantum dot devices by the combination of bottom-up and top-down technologies and studied for the application of quantum information devices. It has been clarified that a piezo-valve, raicalnitridation, and dip-coating methods are effective for controlling the size, the surface oxide layer, and integration of silicon nanocrystals, respectively. We have also fabricated a nanoscale devices integrated by coupled-quantum-dots and a charge sensor single-electron-transistor, and successfully controlled the number of a few electrons in the quantum dots.
我们采用自下而上和自上而下相结合的技术制备了硅基量子点器件,并研究了量子信息器件的应用。已经阐明压电阀、自由基氮化和浸涂方法分别对于控制硅纳米晶体的尺寸、表面氧化层和集成是有效的。我们还制备了耦合量子点和电荷传感器单电子晶体管集成的纳米级器件,并成功控制了量子点中的电子数量。
项目成果
期刊论文数量(134)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
ナノシリコンの最新技術と応用展開
纳米硅最新技术及应用发展
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Sosuke Yamauchi;Sotaro Shimada;宇田川 幸則;高橋 庸夫
- 通讯作者:高橋 庸夫
A Multi-Purpose Electrostatically Defined Silicon Quantum Dot Structure
- DOI:10.1143/jjap.51.02bj10
- 发表时间:2011-09
- 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:M. A. Sulthoni;T. Kodera;Y. Kawano;S. Oda
- 通讯作者:M. A. Sulthoni;T. Kodera;Y. Kawano;S. Oda
charge sensing of a Si triple quantum dot system using single electron transistors
使用单电子晶体管的硅三量子点系统的电荷传感
- DOI:
- 发表时间:2013
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Ko Yamada;Tetsuo Kodera;Tomohiro Kambara;Yukio Kawano and Shunri Oda
- 通讯作者:Yukio Kawano and Shunri Oda
Key capacitive parameters for designing single-electron transistor charge sensors
- DOI:10.1063/1.4711094
- 发表时间:2012-05
- 期刊:
- 影响因子:3.2
- 作者:K. Horibe;T. Kodera;T. Kambara;K. Uchida;S. Oda
- 通讯作者:K. Horibe;T. Kodera;T. Kambara;K. Uchida;S. Oda
Si量子ドットを用いた単電子トランジスタの研究
利用硅量子点的单电子晶体管研究
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Noriyuki Yasufuku;Quiang Liu;Zentaro Furukawa;小田俊理
- 通讯作者:小田俊理
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
ODA Shunri其他文献
ODA Shunri的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('ODA Shunri', 18)}}的其他基金
Fabrication of Nanoscale Devices and Circuits using DNA Origami Technology
使用 DNA 折纸技术制造纳米级器件和电路
- 批准号:
24656201 - 财政年份:2012
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
Integrated Assembly of NeoSilicon towards Quantum Information Devices
NeoSilicon 面向量子信息器件的集成组装
- 批准号:
19206035 - 财政年份:2007
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Self-assembled integration technologies of silicon quantum dots toward future NeoSilicon quantum information devices
面向未来NeoSilicon量子信息器件的硅量子点自组装集成技术
- 批准号:
16206030 - 财政年份:2004
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Atomic scale control of high-k dielectric ultrathin film grown by atomic layer-by-layer MOCVD with using in situ spectroscopic ellipsometry monitoring
利用原位光谱椭偏监测对原子逐层 MOCVD 生长的高 k 介电超薄膜进行原子尺度控制
- 批准号:
14350160 - 财政年份:2002
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Single Electron Devices Based on NeoSilicon Materials
基于新硅材料的单电子器件
- 批准号:
11355014 - 财政年份:1999
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Control of Particle Size and Position of Nano-crystalline Silicon
纳米晶硅颗粒尺寸和位置的控制
- 批准号:
11450008 - 财政年份:1999
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
STUDY OF ULTRA-THIN-FILM/ULTRA-FINE-STRUCTURE DEVICES
超薄膜/超细结构器件的研究
- 批准号:
10044138 - 财政年份:1998
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A).
Fabnication of Superconductor/Insulator/Superconductor Trilayer Tunnel Junction Devices by Atomic Layer MOCVD
原子层MOCVD制备超导/绝缘体/超导三层隧道结器件
- 批准号:
08555004 - 财政年份:1996
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
STUDY OF ULTRA-THIN-FILM/ULTRA-FINE-STRUCTURE DEVEICES
超薄膜/超细结构器件的研究
- 批准号:
08044134 - 财政年份:1996
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for international Scientific Research
Study of Ultra-Thin-Film/Ultra-Fine-Structure Devices
超薄膜/超微细结构器件的研究
- 批准号:
06044076 - 财政年份:1994
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for international Scientific Research
相似国自然基金
高温气化过程中煤灰矿物质演变规律的量子化学计算与实验研究
- 批准号:50906055
- 批准年份:2009
- 资助金额:20.0 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
相似海外基金
Si量子ドットの表面構造と高機能化:量子収率80%,熱水(80℃)の耐久性を超え
硅量子点的表面结构和高功能性:量子产率达80%,超过热水耐久性(80℃)
- 批准号:
22H01909 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
三次元集積化に向けたスケーラブルな積層構造シリコン量子ビットに関する研究
用于 3D 集成的可扩展堆叠硅量子位研究
- 批准号:
19H00754 - 财政年份:2019
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Quantum-dots formation in a buried interface by external-electron-energy injection
通过外部电子能量注入在掩埋界面中形成量子点
- 批准号:
19K03694 - 财政年份:2019
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
MOS構造デバイスによるシリコン電子スピン量子ビット実現へ向けた研究
使用MOS结构器件实现硅电子自旋量子位的研究
- 批准号:
13J07182 - 财政年份:2013
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
分子、粒子、細胞の配向構造形成メカニズム
分子、颗粒、细胞定向结构形成机制
- 批准号:
10J09400 - 财政年份:2010
- 资助金额:
$ 31.2万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows