Micro and Nano Device Fabrication
微纳器件制造
基本信息
- 批准号:1000215803-2009
- 负责人:
- 金额:$ 7.29万
- 依托单位:
- 依托单位国家:加拿大
- 项目类别:Canada Research Chairs
- 财政年份:2013
- 资助国家:加拿大
- 起止时间:2013-01-01 至 2014-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
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项目成果
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Achenbach, Sven其他文献
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- 影响因子:5.7
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Achenbach, Sven
Achenbach, Sven的其他文献
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Deep X-Ray Lithography for High Aspect Ratio Polymer Micro Structures
高深宽比聚合物微结构的深度 X 射线光刻
- 批准号:
RGPIN-2019-06009 - 财政年份:2022
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Deep X-Ray Lithography for High Aspect Ratio Polymer Micro Structures
高深宽比聚合物微结构的深度 X 射线光刻
- 批准号:
RGPIN-2019-06009 - 财政年份:2021
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Deep X-Ray Lithography for High Aspect Ratio Polymer Micro Structures
高深宽比聚合物微结构的深度 X 射线光刻
- 批准号:
RGPIN-2019-06009 - 财政年份:2020
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$ 7.29万 - 项目类别:
Discovery Grants Program - Individual
High resolution zone plates fabricated by soft X-ray lithography for tomographic soft X-ray analysis applied in the designing and screening of potential Covid-19 drugs
通过软 X 射线光刻技术制造的高分辨率波带片,用于断层扫描软 X 射线分析,应用于潜在 Covid-19 药物的设计和筛选
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Deep X-Ray Lithography for High Aspect Ratio Polymer Micro Structures
高深宽比聚合物微结构的深度 X 射线光刻
- 批准号:
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Deep x-ray lithography for high aspect ratio applications
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- 批准号:
327243-2009 - 财政年份:2015
- 资助金额:
$ 7.29万 - 项目类别:
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Micro and Nano Device Fabrication
微纳器件制造
- 批准号:
1000215803-2009 - 财政年份:2014
- 资助金额:
$ 7.29万 - 项目类别:
Canada Research Chairs
Deep x-ray lithography for high aspect ratio applications
适用于高深宽比应用的深度 X 射线光刻
- 批准号:
327243-2009 - 财政年份:2012
- 资助金额:
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Micro and Nano Device Fabrication
微纳器件制造
- 批准号:
1000215803-2009 - 财政年份:2012
- 资助金额:
$ 7.29万 - 项目类别:
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Micro and Nano Device Fabrication
微纳器件制造
- 批准号:
1000215803-2009 - 财政年份:2011
- 资助金额:
$ 7.29万 - 项目类别:
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相似国自然基金
基于磁纳米粒子非线性响应的活体动物三维融合成像设备
- 批准号:
- 批准年份:2020
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喷涂半导体纳米颗粒层的形成及其器件应用
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20K05327 - 财政年份:2020
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基于微纳融合工艺的光电联合检测纳米孔传感装置
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- 批准号:
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- 资助金额:
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- 批准号:
16K13639 - 财政年份:2016
- 资助金额:
$ 7.29万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research