Influence of charge delocalization in nanofabrication induced by ionizing radiations

电离辐射引起的纳米加工中电荷离域的影响

基本信息

  • 批准号：
    15K06662
  • 负责人：
    Okamoto Kazumasa
  • 金额：
    $ 3.08万
  • 依托单位：
    Hokkaido University
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份：
    2015
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2015-04-01 至 2018-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
パルスラジオリシス法によるフッ素樹脂の放射線化学反応の解明
用脉冲辐射分解法阐明氟树脂的辐射化学反应
  • DOI：
  • 发表时间：
    2015
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    野村直矢;岡本一将;藤吉亮子;梅垣菊男;山本洋揮;古澤孝弘
  • 通讯作者：
    古澤孝弘
Dynamics of radical cations of poly(4-hydroxystyrene) in the presence and absence of triphenylsulfonium triflate as determined by pulse radiolysis of its highly concentrated solution
通过脉冲辐射分解高浓度溶液测定聚（4-羟基苯乙烯）在三苯锍三氟甲磺酸盐存在和不存在下的自由基阳离子动力学
  • DOI：
    10.1016/j.cplett.2016.05.058
  • 发表时间：
    2016
  • 期刊：
    Chem. Phys. Lett.
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    K. Okamoto;T. Ishida;H. Yamamoto;T. Kozawa;R. Fujiyoshi;and K. Umegaki
  • 通讯作者：
    and K. Umegaki
Dynamics of radical ions of fluorinated polymer for Extreme Ultraviolet (EUV) lithography
用于极紫外 (EUV) 光刻的氟化聚合物自由基离子动力学
  • DOI：
    10.1117/12.2193060
  • 发表时间：
    2015
  • 期刊：
    Proc. SPIE
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    N. Nomura;K. Okamoto;H. Yamamoto;T. Kozawa;R. Fujiyoshi;K. Umegaki
  • 通讯作者：
    K. Umegaki
化学増幅型レジストへのスルホン化合物の添加効果
添加砜化合物对化学放大型抗蚀剂的影响
  • DOI：
  • 发表时间：
    2017
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    岡本 一将;藤井 槙哉;山本 洋揮;古澤 孝弘;井谷 俊郎
  • 通讯作者：
    井谷 俊郎
量子ビーム応用医工学研究室ホームページ
量子束应用医学工程实验室主页
  • DOI：
  • 发表时间：
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
  • 通讯作者：
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Okamoto Kazumasa其他文献

Heating effect of the radiation chemistry of polyhydroxystyrene-type chemically amplified resists
聚羟基苯乙烯型化学放大型光刻胶的辐射化学热效应
  • DOI：
    10.35848/1347-4065/aba7d7
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
    Japanese Journal of Applied Physics
  • 影响因子：
    1.5
  • 作者：
    Ikari Yuta;Okamoto Kazumasa;Konda Akihiro;Kozawa Takahiro;Tamura Takao
  • 通讯作者：
    Tamura Takao
衛星測位における建築物の地震時応答変位観測に関する基礎研究
卫星定位建筑物地震响应位移观测基础研究
  • DOI：
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Murakami Shuntaro;Zhang Lihua;Jeem Melbert;Okamoto Kazumasa;Nakagawa Yuki;Shibayama Tamaki;Ohnuma Masato;Watanabe Seiichi;田嶋一之・向井智久・毎田悠承・南部禎士・鹿嶋俊英
  • 通讯作者：
    田嶋一之・向井智久・毎田悠承・南部禎士・鹿嶋俊英
デュアルコム分光のための近赤外光周波数コムの可視化
用于双梳光谱的近红外光学频率梳的可视化
  • DOI：
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Kudo Hiroto;Fukunaga Mari;Yamada Teppei;Yamakawa Shinji;Watanabe Takeo;Yamamoto Hiroki;Okamoto Kazumasa;Kozawa Takahiro;加藤 英毅，池田 孝介，佐藤 航己，郷治 侑真，大久保 章，稲場 肇，吉井 一倫， 洪 鋒雷
  • 通讯作者：
    加藤 英毅，池田 孝介，佐藤 航己，郷治 侑真，大久保 章，稲場 肇，吉井 一倫， 洪 鋒雷
Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resist by adding diphenyl sulfone derivatives
添加二苯砜衍生物提高化学放大型 EUV 光刻胶的灵敏度
摂食シグナルを受容する胆汁酸受容体TGR5
接收进食信号的胆汁酸受体 TGR5
  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
    実験医学
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Murakami Yoshiyuki;Ishiwari Fumitaka;Okamoto Kazumasa;Kozawa Takahiro;Saeki Akinori;佐藤隆一郎
  • 通讯作者：
    佐藤隆一郎

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  • 通讯作者：
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Elucidation of deprotonation induced mechanism in nano-and microfabrication process using ionizing radiations and its applications
阐明电离辐射纳米和微加工过程中去质子化诱导机制及其应用
  • 批准号：
    19K05330
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    2019
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    $ 3.08万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

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用于极紫外 (EUV) 光刻的氟化聚合物自由基离子动力学
  • 批准号：
    25630424
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    2013
  • 资助金额：
    $ 3.08万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
Elucidation of local ionization in ultra-thin polymer films and its application
超薄膜聚合物局部电离的阐明及其应用
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    24561037
  • 财政年份：
    2012
  • 资助金额：
    $ 3.08万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
サブピコ秒パルスラジオリシス法によるナノリソグラフィ材料の反応機構の解明と開発
利用亚皮秒脉冲辐射分解法阐明和发展纳米光刻材料的反应机理
  • 批准号：
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    2002
  • 资助金额：
    $ 3.08万
  • 项目类别：
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化学増幅型レジストの放射線誘起反応機構の解明
化学放大抗蚀剂辐射诱导反应机理的阐明
  • 批准号：
    06780401
  • 财政年份：
    1994
  • 资助金额：
    $ 3.08万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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