化学増幅型レジストの放射線誘起反応機構の解明

化学放大抗蚀剂辐射诱导反应机理的阐明

基本信息

批准号：
06780401
负责人：
古澤孝弘
金额：
$ 0.58万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1994
资助国家：
日本
起止时间：
1994 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

オニウム塩‐ノボラック系の化学増幅型電子線・X線レジストにおける酸の発生過程を、実際のベース樹脂を用いたパルスラジオリシスにより調べた。実験は東京大学工学部附属原子力工学研究施設に設置されている28MeV線形加速器で行った。酸発生剤として、オニウム塩を使用し、ベース樹脂に構造の違う2種類のノボラックを用いた。溶融状態での15wt.%オニウム塩含有p-クレゾールノボラックの過渡吸収スペクトルにおいて、620nmにp-クレゾールノボラックのみでは観測されない吸収が現れる。固体状態でも同様の吸収が現れ、固体状態での寿命は0.68秒である。同じく、溶融状態での15wt.%オニウム塩含有m-クレゾールノボラックの過渡吸収スペクトルでは、540nmにp-クレゾールノボラック同様の長寿命成分が観測される。540nmの吸収もノボラックのみでは現れない。この吸収の寿命は23秒である。この吸収はその寿命からわかるように照射後も長時間残っており、分光光度計での測定が可能である。このような実験からこの吸収は酸発生剤の種類(スルフォニウム塩、アイオドニウム塩、ジニトロベンジルトシレイト)に依存せず、アミンで捕捉されることがわかっており、プロトン関与の吸収であると考えられる。これらの事実から、化学増幅型レジストでは照射時速やかにブレンステッド酸が形成されるわけではなく、プロトンは長時間不安定な状態で存在し、レジストの感度不安定性の一因になっていると考えられる。

使用实际的碱基树脂，通过脉冲放射溶解研究了化学扩增的电子束和X射线在化学扩增的电子束和X射线中的产生过程。该实验是使用东京大学工程学院核工程研究机构安装的28mev线性加速器进行的。 on盐用作酸性发生器，两种具有不同结构的诺瓦克斯用作碱树脂。在熔融中含有15 wt的含量为15 wt的P-CRESOL NOVOLAC的瞬时吸收光谱中，仅使用P-Cresol Novolac观察到的吸收在620 nm处出现。相似的吸收在固态下出现，其寿命为0.68秒。同样，在熔融状态的M-Cresol Novolac的瞬时吸收光谱中，在540 nm处观察到与P-Cresol Novolac相似的长寿命成分。 540nm时的吸收并非仅出现在Novolac。这种吸收的寿命为23秒。从其寿命可以看出，这种吸收在辐照后很长一段时间，并且可以用分光光度计测量。这些实验表明，这种吸收不取决于酸性发生器的类型（硫酸盐，碘盐，二硝基苯基丁糖基），并且被胺捕获，并且被认为是一种抗质子的吸收。基于这些事实，人们认为在化学放大的抗辐射过程中，布隆酸不会迅速形成，并且质子长期存在于不稳定状态，这有助于抗药性的敏感性不稳定。