Elucidation of deprotonation induced mechanism in nano-and microfabrication process using ionizing radiations and its applications

阐明电离辐射纳米和微加工过程中去质子化诱导机制及其应用

基本信息

  • 批准号:
    19K05330
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-01 至 2022-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(11)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
大阪大学産業科学研究所古澤研究室
大阪大学产业科学研究所古泽实验室
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
大阪大学産業科学研究所 量子ビーム物質科学研究分野  ホームページ
大阪大学科学产业研究所量子束材料科学研究部主页
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Dependence of dose rate on the sensitivity of the resist under ultra-high flux extreme ultraviolet (EUV) pulse irradiation
超高通量极紫外 (EUV) 脉冲照射下剂量率对光刻胶灵敏度的依赖性
  • DOI:
    10.35848/1882-0786/abfca3
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.3
  • 作者:
    Okamoto Kazumasa;Kawai Shunpei;Ikari Yuta;Hori Shigeo;Konda Akihiro;Ueno Koki;Arai Yohei;Ishino Masahiko;Thanhhung Dinh;Nishikino Masaharu;Kon Akira;Owada Shigeki;Inubushi Yuichi;Kinoshita Hiroo;Kozawa Takahiro
  • 通讯作者:
    Kozawa Takahiro
Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resist by adding diphenyl sulfone derivatives
添加二苯砜衍生物提高化学放大型 EUV 光刻胶的灵敏度
ジフェニルスルホン酸生成促進剤による化学増幅型レジストの感度向上
使用二苯磺酸生产促进剂提高化学放大抗蚀剂的灵敏度
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    河合俊平;大沼正人;岡本一将;古澤孝弘
  • 通讯作者:
    古澤孝弘
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  • 通讯作者:
    Tamura Takao
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  • 通讯作者:
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摂食シグナルを受容する胆汁酸受容体TGR5
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
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  • 作者:
    Murakami Yoshiyuki;Ishiwari Fumitaka;Okamoto Kazumasa;Kozawa Takahiro;Saeki Akinori;佐藤隆一郎
  • 通讯作者:
    佐藤隆一郎
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Murakami Shuntaro;Zhang Lihua;Jeem Melbert;Okamoto Kazumasa;Nakagawa Yuki;Shibayama Tamaki;Ohnuma Masato;Watanabe Seiichi;谷口大輔
  • 通讯作者:
    谷口大輔

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