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Study on nanoscale chemical reaction for the establishment of scientific foundation of ultrafine patterning using extreme ultraviolet radiation
纳米化学反应研究为极紫外辐射超精细图案化奠定科学基础
基本信息
- 批准号：19360428
- 负责人：
- 金额：$ 12.23万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2007
- 资助国家：日本
- 起止时间：2007 至 2009
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
The reaction mechanism of resist pattern formation and the spatial distribution of reactive intermediates were clarified through the pulse radiolysis of model materials for the resists used for the mass-production of semiconductor devices. On the basis of the reaction mechanisms, a Monte Carlo simulation code was developed.
通过模型材料的脉冲放射透明化，用于抗压中间体的反应机理和反应性中间体的空间分布，以供用于批量生产半导体设备的抗抑郁材料。根据反应机制，开发了蒙特卡洛模拟代码。
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene) and Its Copolymer for Extreme Ultraviolet and Electron Beam Resists
聚(4-羟基苯乙烯)及其共聚物的自由基阳离子动力学用于极紫外和电子束抗蚀剂
- DOI：
- 发表时间：2009
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：K. Okamoto;M. Tanaka;T. Kozawa;S. Tagawa
- 通讯作者：S. Tagawa
Point Spread Function for the Calculation of Acid Distribution in Chemically Amplified Resists Used for Electron-Beam Lithography
用于计算电子束光刻用化学放大抗蚀剂中酸分布的点扩散函数
- DOI：
- 发表时间：2007
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：T. Kozawa;S. Tagawa
- 通讯作者：S. Tagawa
Effect of molecular structures of acid generators on acid generation in chemically amplified resists upon exposure to 75 keV electron beam
酸生成剂的分子结构对化学放大抗蚀剂暴露于 75 keV 电子束时酸生成的影响
- DOI：
- 发表时间：2008
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：K. Natsuda;T. Kozawa;K. Okamoto;and S. Tagawa
- 通讯作者：and S. Tagawa
Theoretical Study on the Dependence of Acid Distribution on Material Properties of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists
酸分布对化学放大极紫外光刻胶材料性能依赖性的理论研究
- DOI：
- 发表时间：2008
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：T. Kozawa;S. Tagawa;M. Shell
- 通讯作者：M. Shell
heoretical Study on the Dependence of Acid Distribution on Material Properties of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists
酸分布对化学增强极紫外光刻胶材料性能依赖性的理论研究
- DOI：
- 发表时间：2008
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：T. Kozawa;S. Tagawa;M. Shell
- 通讯作者：M. Shell
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22246128 - 财政年份：2010
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$ 12.23万 - 项目类别：
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22H01272 - 财政年份：2022
- 资助金额：
$ 12.23万 - 项目类别：
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- 批准号：
22H01764 - 财政年份：2022
- 资助金额：
$ 12.23万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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- 批准号：
22KK0042 - 财政年份：2022
- 资助金额：
$ 12.23万 - 项目类别：
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