Dynamics of radical ions of fluorinated polymer for Extreme Ultraviolet (EUV) lithography

用于极紫外 (EUV) 光刻的氟化聚合物自由基离子动力学

基本信息

  • 批准号:
    25630424
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.16万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 财政年份:
    2013
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2013-04-01 至 2016-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(27)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Deprotonation mechanism of ionized poly(4-hydroxystyrene)
电离聚(4-羟基苯乙烯)的去质子化机理
  • DOI:
    10.1117/12.2045881
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Toshihiko Susa;Kazumasa Okamoto ;Takuya Ishida ;Hiroki Yamamoto ;Takahiro Kozawa ;Ryoko Fujiyoshi;and Kikuo Umegaki
  • 通讯作者:
    and Kikuo Umegaki
Pulse radiolysis in concentrated poly(4-hydroxystyrene) solution: Acid generation dynamics in EUV and electron-beam chemically amplified resist
浓聚(4-羟基苯乙烯)溶液中的脉冲辐射分解:EUV 和电子束化学放大抗蚀剂中的酸生成动力学
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Okamoto;T. Ishida;H. Yamamoto;T. Kozawa;R. Fujiyoshi;K. Umegaki
  • 通讯作者:
    K. Umegaki
ポリ(4-ヒドロキシスチレン)(PHS)濃厚溶液の脱プロトン反応の粘度効果
浓聚(4-羟基苯乙烯)(PHS)溶液去质子化反应的粘度效应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    石田拓也;岡本一将;山本洋揮;古澤孝弘;藤吉亮子;住吉 孝
  • 通讯作者:
    住吉 孝
Dynamics of radical ions of fluorinated polymer for Extreme Ultraviolet (EUV) lithography
用于极紫外 (EUV) 光刻的氟化聚合物自由基离子动力学
  • DOI:
    10.1117/12.2193060
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    N. Nomura;K. Okamoto;H. Yamamoto;T. Kozawa;R. Fujiyoshi;K. Umegaki
  • 通讯作者:
    K. Umegaki
Pulse Radiolysis Study of Polystyrene-based Polymers with Adding Photoacid Generators (PAGs): Molecular Dynamics of Extreme-ultraviolet and Electron Beam Resist
添加光酸发生器 (PAG) 的聚苯乙烯基聚合物的脉冲辐解研究:极紫外和电子束抗蚀剂的分子动力学
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Okamoto;K. Tominaga;T. Hori;H. Yamamoto;T. Kozawa;R. Fujiyoshi;and T. Sumiyoshi
  • 通讯作者:
    and T. Sumiyoshi
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Fujiyoshi Ryoko其他文献

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