実動作中のワイドギャップ半導体パワーデバイスにおける転位の動的な挙動の観察

宽禁带半导体功率器件实际运行过程中位错动态行为的观察

基本信息

  • 批准号:
    23K17356
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 16.56万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Pioneering)
  • 财政年份:
    2023
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2023-06-30 至 2027-03-31
  • 项目状态:
    未结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

姚 永昭其他文献

ワイドバンドギャップ半導体結晶の転位検出と解析
宽带隙半导体晶体的位错检测与分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    石川由加里;姚 永昭;菅原 義弘;佐藤 功二;横江 大作
  • 通讯作者:
    横江 大作
理想配列ポーラスアルミナメンブレンの作製と光学特性評価
理想阵列多孔氧化铝膜的制备及光学性能评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    石川由加里;菅原 義弘;姚 永昭;武田秀俊;會田英雄;只友一行;伊髙 健治;伊藤榛華,柳下 崇
  • 通讯作者:
    伊藤榛華,柳下 崇
GaN自立基板上pnダイオードの逆方向リーク電流と貫通螺旋転位周りに存在するMgとの関係
GaN自支撑衬底上pn二极管的反向漏电流与螺旋位错周围存在的Mg的关系
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    宇佐美 茂佳;田中 敦之;間山 憲仁;戸田 一也;菅原 義弘;姚 永昭;石川 由加里;安藤 悠人;出来 真斗;新田 州吾;本田 善央;天野 浩
  • 通讯作者:
    天野 浩
(0001)GaNウエハ上のsクラッチ幅と転位パタンサイズの線形増加
(0001) GaN 晶圆上离合宽度和位错图案尺寸线性增加
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    石川由加里;菅原 義弘;姚 永昭;武田秀俊;會田英雄;只友一行
  • 通讯作者:
    只友一行
積雪した太陽電池モジュールにおける熱収支とアルベドの影響
热平衡和反照率对积雪太阳能电池组件的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    石川由加里;菅原 義弘;姚 永昭;武田秀俊;會田英雄;只友一行;伊髙 健治
  • 通讯作者:
    伊髙 健治

姚 永昭的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('姚 永昭', 18)}}的其他基金

パワーデバイス劣化機構の解明に向けた格子欠陥のオペランド観察技術の開発
开发晶格缺陷原位观察技术以阐明功率器件劣化机制
  • 批准号:
    23K26565
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 16.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
パワーデバイス劣化機構の解明に向けた格子欠陥のオペランド観察技術の開発
开发晶格缺陷原位观察技术以阐明功率器件劣化机制
  • 批准号:
    23H01872
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 16.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

相似国自然基金

碳化硅陶瓷的粘结剂喷射增材制造协同致密化策略与机理研究
  • 批准号:
    52305425
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
连续SiC纤维增韧陶瓷复材多尺度损伤建模与失效机制
  • 批准号:
    12372142
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    52 万元
  • 项目类别:
    面上项目
基于碳/碳表面(HfxTa1-x)B2-SiC抗氧化梯度涂层仿生成膜及机理研究
  • 批准号:
    52302047
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
大口径铝基碳化硅反射镜的激光-椭圆超声振动多物理场超精密复合切削工艺研究
  • 批准号:
    52305489
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
SiC基石墨烯超表面紫外-太赫兹双波段探测器研究
  • 批准号:
    62304187
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目

相似海外基金

溶液法/昇華法ハイブリッド成長における欠陥伝播メカニズム解明と高品位化実証
阐明缺陷传播机制并演示高质量的溶液/升华混合生长
  • 批准号:
    22H01977
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 16.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Clarification of dislocation reduction mechanism and exploring the limit in fast SiC bulk growth by high-temperature CVD
阐明位错还原机制并探索高温CVD快速生长SiC的极限
  • 批准号:
    20H00356
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 16.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Development of dislocation dynamics simulator for 4H-SiC power devices
4H-SiC功率器件位错动力学模拟器的开发
  • 批准号:
    20K22384
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 16.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
New defect engineering; challenge for zero twin defect 3C-SiC
新缺陷工程;
  • 批准号:
    18K18934
  • 财政年份:
    2018
  • 资助金额:
    $ 16.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
Effects of defects and surface structure on oxide film on non-polar 4H-SiC plane
非极性4H-SiC面氧化膜缺陷及表面结构的影响
  • 批准号:
    17K05049
  • 财政年份:
    2017
  • 资助金额:
    $ 16.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了