无掩模SPP波导干涉光刻研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:60676024
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:30.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0406.集成电路器件、制造与封装
- 结题年份:2009
- 批准年份:2006
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2007-01-01 至2009-12-31
- 项目参与者:郭永康; 王磊; 郭小伟; 李剑峰; 罗铂靓; 姚欣; 马延琴; 方亮; 魏涛;
- 关键词:
项目摘要
提出利用全反射激发金属薄膜产生SPP实现近场光增强的多光束耦合波导干涉光刻新方法- - SPP波导干涉光刻术。该技术集中了常规干涉光刻、SPP接触光刻方法的固有优势,克服了普通干涉光刻分辨率难以突破1/4照明波长的局限和一般SPP接触光刻需加工掩模、不能大面积曝光、加工过程中光刻图形的结构无法更改等致命缺点。通过新的波导结构和耦合、调控技术的引入,使SPP干涉光刻不仅曝光速度快、分辨率高,且具有了无掩模、可大曝光面积、能满足不同线条特征尺寸和周期的加工需求等特色。SPP波导干涉光刻新方法不仅可用于常规的微电子、微光学器件加工,还可应用于传统光刻和分子自组装等技术难以适用的一些纳米加工范围;切实满足微纳光、电子学领域纳米结构制作高精度、高效率、低成本加工等诸多特殊要求,特别是可为光子晶体器件提供了一条方便、理想的加工途径,有良好实用前景;对集成光、电子学和表面等离子光学的发展有重要促进意义。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(24)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(1)
大面积拼接光栅的远场衍射分析
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:光子学报
- 影响因子:--
- 作者:马延琴;陈铭勇;杜惊雷
- 通讯作者:杜惊雷
Near-Field Optical Transfer Function for Far-Field Super-Resolution Imaging
用于远场超分辨率成像的近场光学传递函数
- DOI:10.1088/0256-307x/26/1/014211
- 发表时间:2009
- 期刊:Chinese Physics Letters
- 影响因子:3.5
- 作者:Luo Xian-Gang;Zhang Zhi-You;Niu Xiao-Yun;Guo Yong-Kang;Li Min;Du Jing-Lei;Du Chun-Lei
- 通讯作者:Du Chun-Lei
多光点扫描数字光刻制作DOE的方法研究
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:四川大学学报(自然科学版)
- 影响因子:--
- 作者:段茜;杜惊雷;郭小伟;方亮;张志友;王景全
- 通讯作者:王景全
Stimulated Raman scattering mode competition in C6H12 under different pump wavelength
不同泵浦波长下C6H12受激拉曼散射模式竞争
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:物理学报
- 影响因子:--
- 作者:Du Jing-Lei;Liang Hui-Min;Wei Xiao-Feng;Zhu Qi-Hua;Huang Xiao-Jun;Guo Yi;Zheng Wan-Guo;Yang Jing-Guo;Wang Xiao-Dong;Wang Zhi-Hua;Luo Shi-Rong;Wang Hong-Bo
- 通讯作者:Wang Hong-Bo
菱形金属纳米粒子光学性质的研究
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:光散射学报
- 影响因子:--
- 作者:黄鹏;付永启;周崇喜;杜惊雷;罗先刚
- 通讯作者:罗先刚
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:{{ item.doi || "--"}}
- 发表时间:{{ item.publish_year || "--" }}
- 期刊:{{ item.journal_name }}
- 影响因子:{{ item.factor || "--"}}
- 作者:{{ item.authors }}
- 通讯作者:{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.authors }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.authors }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.authors }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.authors }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
其他文献
用于微器件加工的AZ4620厚胶光刻
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:半导体技术.30(7): 34-38, 2005
- 影响因子:--
- 作者:罗铂靓;杜惊雷;唐雄贵;杜春雷
- 通讯作者:杜春雷
用于分数傅里叶域滤波位相元件设
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:光电工程.32(3):54-57, 2005
- 影响因子:--
- 作者:刘建莉;高峰;杜惊雷;罗铂靓
- 通讯作者:罗铂靓
抗蚀剂AZ4562曝光参数的变化趋势
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:固体电子学研究与进展. 26(4):550-554,2006
- 影响因子:--
- 作者:罗铂靓;杜惊雷;刘世杰;郭小伟
- 通讯作者:郭小伟
提高OLED光导出效率的异形金属光栅的设计与优化
- DOI:--
- 发表时间:2010
- 期刊:发光学报
- 影响因子:--
- 作者:罗跃川;张志友;石莎;杜惊雷
- 通讯作者:杜惊雷
单模共振干涉光刻曝光显影模拟研究
- DOI:--
- 发表时间:2013
- 期刊:光学学报
- 影响因子:--
- 作者:杨正;张志友;李淑红;高福华;杜惊雷
- 通讯作者:杜惊雷
其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:{{ item.doi || "--" }}
- 发表时间:{{ item.publish_year || "--"}}
- 期刊:{{ item.journal_name }}
- 影响因子:{{ item.factor || "--" }}
- 作者:{{ item.authors }}
- 通讯作者:{{ item.author }}

内容获取失败,请点击重试

查看分析示例
此项目为已结题,我已根据课题信息分析并撰写以下内容,帮您拓宽课题思路:
AI项目摘要
AI项目思路
AI技术路线图

请为本次AI项目解读的内容对您的实用性打分
非常不实用
非常实用
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
您认为此功能如何分析更能满足您的需求,请填写您的反馈:
杜惊雷的其他基金
远场光学超分辨成像术研究
- 批准号:60878031
- 批准年份:2008
- 资助金额:40.0 万元
- 项目类别:面上项目
数字光刻新技术研究
- 批准号:60376021
- 批准年份:2003
- 资助金额:27.0 万元
- 项目类别:面上项目
部分相干分数域滤波及提高光刻分辨力新方法研究
- 批准号:69907003
- 批准年份:1999
- 资助金额:13.0 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
相似国自然基金
{{ item.name }}
- 批准号:{{ item.ratify_no }}
- 批准年份:{{ item.approval_year }}
- 资助金额:{{ item.support_num }}
- 项目类别:{{ item.project_type }}
相似海外基金
{{
item.name }}
{{ item.translate_name }}
- 批准号:{{ item.ratify_no }}
- 财政年份:{{ item.approval_year }}
- 资助金额:{{ item.support_num }}
- 项目类别:{{ item.project_type }}