远场光学超分辨成像术研究

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项目介绍
AI项目解读

基本信息

  • 批准号：
    60878031
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    40.0万
  • 负责人：
    杜惊雷
  • 依托单位：
    四川大学
  • 学科分类：
    F0508.应用光学
  • 结题年份：
    2011
  • 批准年份：
    2008
  • 项目状态：
    已结题
  • 起止时间：
    2009-01-01 至2011-12-31

项目摘要

纳米结构的加工、表征和检测方法的研究是发展纳米器件和技术的关键。本项目提出用金属膜与介质复合的微结构激发SPP近场增强，将携带物体超分辨信息的消逝波耦合成为传播波，通过测量其远场角谱并反演得出物的纳米尺度形貌的新的成像技术。金属膜与介质异形光栅的采用，可大为减低SPP成像耦合器件的加工难度，提高成像系统的分辨率和能量利用率。针对远场像快速恢复的困难，我们提出SPP远场超分辨成像的广义光学传递函数的概念用于描述该系统的成像特性，建立一种SPP远场超分辨成像的新理论基础，发展形成远场像的快速恢复算法，从而可实现从近场到远场整个成像空间光场分布的快速计算和分析。本项目研究的SPP远场超分辨快速成像新技术，可用于对介观光学结构及生物样品进行非接触无损检测和表征，有重要应用前景，对发展纳光子学有重要意义。项目成员长期从事微纳米光学和超分辨光刻技术研究，具有开展SPP超分辨成像理论和实验研究工作基础。

结项摘要

项目成果

期刊论文数量（19）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（1）
专利数量（0）
Near-Field Optical Transfer Function for Far-Field Super-Resolution Imaging
用于远场超分辨率成像的近场光学传递函数
  • DOI：
    10.1088/0256-307x/26/1/014211
  • 发表时间：
    2009
  • 期刊：
    Chinese Physics Letters
  • 影响因子：
    3.5
  • 作者：
    Luo Xian-Gang;Zhang Zhi-You;Niu Xiao-Yun;Guo Yong-Kang;Li Min;Du Jing-Lei;Du Chun-Lei
  • 通讯作者：
    Du Chun-Lei
亚波长金属聚焦透镜结构参数的优化与分析
  • DOI：
    --
  • 发表时间：
    --
  • 期刊：
    物理学报
  • 影响因子：
    --
  • 作者：
    石莎;杜惊雷;李敏;张志友
  • 通讯作者：
    张志友
Analysis of fabricating arbitrary nanoscale patterns by LSPP direct writing lithography with two-dimensional metal hole-array
二维金属孔阵列LSPP直写光刻制作任意纳米级图案的分析
  • DOI：
    10.1016/j.mee.2011.02.027
  • 发表时间：
    2011-08
  • 期刊：
    Microelectronic Engineering
  • 影响因子：
    2.3
  • 作者：
    Wang, Jingquan;Shi, Ruiying;Li, Min;Li, Shuhong;Zhang, Zhiyou;Shi, Sha;Niu, Xiaoyun;Du, Chunlei;Du, Jinglei;Gao, Fuhua
  • 通讯作者：
    Gao, Fuhua
Synthesis and Photoluminescence Enhancement of Silver Nanoparticles Decorated Porous Anodic Alumina
纳米银颗粒修饰多孔阳极氧化铝的合成及光致发光增强
  • DOI：
    10.1016/s1005-0302(11)60043-1
  • 发表时间：
    2011-02
  • 期刊：
    材料科学技术(英文版)
  • 影响因子：
    --
  • 作者：
    Hou, Yidong;Zhang, Zhiyou;Ye, Song;Zhu, Renyi;Wang, Jingquan;Shi, Sha;Du, Jinglei;Gu, Shulong
  • 通讯作者：
    Gu, Shulong
A practical nanofabrication method: surface plasmon polaritons interference lithography based on backside-exposure technique
一种实用的纳米加工方法：基于背面曝光技术的表面等离子体激元干涉光刻
  • DOI：
    10.1364/oe.18.015975
  • 发表时间：
    2010-07-19
  • 期刊：
    OPTICS EXPRESS
  • 影响因子：
    3.8
  • 作者：
    He, Mingyang;Zhang, Zhiyou;Ma, Wenying
  • 通讯作者：
    Ma, Wenying

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其他文献

用于微器件加工的AZ4620厚胶光刻
  • DOI：
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  • 发表时间：
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  • 期刊：
    半导体技术.30(7): 34-38, 2005
  • 影响因子：
    --
  • 作者：
    罗铂靓;杜惊雷;唐雄贵;杜春雷
  • 通讯作者：
    杜春雷
多光点扫描数字光刻制作DOE的方法研究
  • DOI：
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  • 发表时间：
    --
  • 期刊：
    四川大学学报(自然科学版)
  • 影响因子：
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  • 作者：
    段茜;杜惊雷;郭小伟;方亮;张志友;王景全
  • 通讯作者：
    王景全
用于分数傅里叶域滤波位相元件设
  • DOI：
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  • 发表时间：
    --
  • 期刊：
    光电工程.32(3):54-57, 2005
  • 影响因子：
    --
  • 作者：
    刘建莉;高峰;杜惊雷;罗铂靓
  • 通讯作者：
    罗铂靓
无掩模多束SPPs干涉光刻成像仿真软件研究
  • DOI：
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  • 发表时间：
    --
  • 期刊：
    四川大学学报(自然科学版)
  • 影响因子：
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  • 作者：
    王景全;郑宇;杜惊雷
  • 通讯作者：
    杜惊雷
无掩模表面等离子激元干涉光刻
  • DOI：
    --
  • 发表时间：
    --
  • 期刊：
    激光与光电子学进展
  • 影响因子：
    --
  • 作者：
    杜惊雷;郭永康;郭小伟;杜春雷;罗先刚
  • 通讯作者：
    罗先刚

其他文献

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杜惊雷的其他基金

无掩模SPP波导干涉光刻研究
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    青年科学基金项目

相似国自然基金

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课题项目：调控A型流感病毒诱导IFN-β表达的机制研究

AI项目摘要：

本研究聚焦于TRIM2蛋白在A型流感病毒诱导的IFN-β表达中的调控机制。A型流感病毒是全球性健康问题，其感染可导致严重的呼吸道疾病。IFN-β作为关键的抗病毒因子，其表达水平对抗病毒防御至关重要。然而，TRIM2如何调控IFN-β的表达尚未明确。本研究假设TRIM2通过与病毒RNA或宿主因子相互作用，影响IFN-β的产生。我们将采用分子生物学、细胞生物学和免疫学方法，探索TRIM2与A型流感病毒诱导IFN-β表达的关系。预期结果将揭示TRIM2在抗病毒免疫反应中的作用，为开发新的抗病毒策略提供理论基础。该研究对理解宿主抗病毒机制具有重要科学意义，并可能对临床治疗流感病毒感染提供新的视角。

AI项目思路：

科学问题：TRIM2如何调控A型流感病毒诱导的IFN-β表达？
前期研究：已有研究表明TRIM2参与抗病毒反应，但其具体机制尚不明确。
研究创新点：本研究将深入探讨TRIM2在IFN-β表达中的直接作用机制。
技术路线：包括病毒学、分子生物学、细胞培养和免疫检测技术。
关键技术：TRIM2与病毒RNA的相互作用分析，IFN-β启动子活性检测。
实验模型：使用A型流感病毒感染的细胞模型进行研究。

AI技术路线图

        graph TD
          A[研究起始] --> B[文献回顾与假设提出]
          B --> C[实验设计与方法学准备]
          C --> D[A型流感病毒感染模型建立]
          D --> E[TRIM2与病毒RNA相互作用分析]
          E --> F[TRIM2对IFN-β启动子活性的影响]
          F --> G[IFN-β表达水平测定]
          G --> H[TRIM2功能丧失与获得研究]
          H --> I[数据收集与分析]
          I --> J[结果解释与科学验证]
          J --> K[研究结论与未来方向]
          K --> L[研究结束]
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