数字光刻新技术研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:60376021
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:27.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0406.集成电路器件、制造与封装
- 结题年份:2006
- 批准年份:2003
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2004-01-01 至2006-12-31
- 项目参与者:石瑞英; 伍登学; 刘世杰; 刘建莉; 刘驰; 刘倩; 高峰; 高福华;
- 关键词:
项目摘要
数字光刻是用计算机优化产生的一系列"虚拟"的数字图形控制投影曝光设备把图形一幅幅地投影到基片上,理论上它甚至可通过数字分析光学检测系统反馈回基片的光场分布信息,优化调控下一时刻数字图形的结构,以获得最佳的光刻图形质量。它是一种全数字、低图形畸变、高对准精度、高效自动化、无掩模而低成本的光学光刻新技术。该技术的兴起将对未来光刻技术的走向及微电子、微光学、微系统研究的发展产生深刻的影响。本项目拟基于部分相干成像和光化学反应动力学理论,深入研究DLP产生的系列灰度图形在光刻过程中的成像机理,搭建数字光刻实验装置并通过实验研究其光刻工艺条件,分析图形传递过程成像系统、抗蚀剂中的非线性因素及曝光工艺中的各种参量影响,建立可实用的数字光刻理论模型和模拟计算软件。针对数字光刻高数据传输率的要求,在兼顾成像质量的基础上,提出一体化系列数字图形优化设计的新方法。为数字光刻技术的实用化发展提供理论和实验依据。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(10)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(4)
专利数量(0)
用于分数傅里叶域滤波位相元件设
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:光电工程.32(3):54-57, 2005
- 影响因子:--
- 作者:刘建莉;高峰;杜惊雷;罗铂靓
- 通讯作者:罗铂靓
抗蚀剂AZ4562曝光参数的变化趋势
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:固体电子学研究与进展. 26(4):550-554,2006
- 影响因子:--
- 作者:罗铂靓;杜惊雷;刘世杰;郭小伟
- 通讯作者:郭小伟
用于微器件加工的AZ4620厚胶光刻
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:半导体技术.30(7): 34-38, 2005
- 影响因子:--
- 作者:罗铂靓;杜惊雷;唐雄贵;杜春雷
- 通讯作者:杜春雷
用灰度曝光技术改善数字光刻图形
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:光电工程.33(11):31-35, 2006
- 影响因子:--
- 作者:郭小伟;杜惊雷;马延琴;陈铭勇
- 通讯作者:陈铭勇
基于数字微反射镜灰度光刻的成像
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:光子学报.35(9): 1412-1416, 2006
- 影响因子:--
- 作者:郭小伟;杜惊雷;罗铂靓;郭永康
- 通讯作者:郭永康
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其他文献
多光点扫描数字光刻制作DOE的方法研究
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:四川大学学报(自然科学版)
- 影响因子:--
- 作者:段茜;杜惊雷;郭小伟;方亮;张志友;王景全
- 通讯作者:王景全
无掩模多束SPPs干涉光刻成像仿真软件研究
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:四川大学学报(自然科学版)
- 影响因子:--
- 作者:王景全;郑宇;杜惊雷
- 通讯作者:杜惊雷
十字星形金属纳米粒子的消光性质
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:光散射学报
- 影响因子:--
- 作者:罗先刚;杜惊雷;黄鹏;周崇喜;付永启
- 通讯作者:付永启
提高OLED光导出效率的异形金属光栅的设计与优化
- DOI:--
- 发表时间:2010
- 期刊:发光学报
- 影响因子:--
- 作者:罗跃川;张志友;石莎;杜惊雷
- 通讯作者:杜惊雷
大面积拼接光栅的远场衍射分析
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:光子学报
- 影响因子:--
- 作者:马延琴;陈铭勇;杜惊雷
- 通讯作者:杜惊雷
其他文献
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