管件内壁离子注入新技术的机理研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:10275088
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:30.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:A3003.离子注入及离子束材料改性
- 结题年份:2005
- 批准年份:2002
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2003-01-01 至2005-12-31
- 项目参与者:范松华; 李兵; 刘赤子; 王久丽; 张谷令; 杨武保; 刘斌;
- 关键词:
项目摘要
利秀等离子体源对管件内壁进行离子注入的改性处理技术,是由我们在国际上首先提出的具有自主知识产权的高新实用技术,具有很广的工业应用前景。与管壁外表面改性机理相比较,由于电场分布、等离子体鞘层等一些物理问题的特殊性,使管件内表面改性处理更加复杂。从实验和理论上对其机理进行深入研究无疑对该技术的产业化应用具有十分重要的意义。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(9)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(6)
专利数量(0)
Grid-shadow effect in grid-enhanced plasma source ion implantation
网格增强等离子体源离子注入中的网格阴影效应
- DOI:10.1016/j.surfcoat.2004.04.069
- 发表时间:2005-03
- 期刊:Surf. Coat. Technol.
- 影响因子:--
- 作者:王久丽;张谷令;王友年;刘元富;刘赤子;杨思泽
- 通讯作者:杨思泽
Influence of ion species ratio on grid-enhanced plasma source ion implantation
离子种类比对栅极增强等离子体源离子注入的影响
- DOI:10.1088/1009-1963/13/1/013
- 发表时间:2004
- 期刊:Chin. Phys
- 影响因子:--
- 作者:王久丽;张谷令;刘赤子;杨思泽等
- 通讯作者:杨思泽等
Influence of grid and target radius and ion-neutral collisions on grid-enhanced plasma source ion implantation
栅极和靶半径以及离子中性碰撞对栅极增强等离子体源离子注入的影响
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:J. Phys. D: Appl. Phys
- 影响因子:--
- 作者:王久丽;张谷令;刘赤子;杨思泽等
- 通讯作者:杨思泽等
等离子体源离子注入离子鞘层及鞘层扩展动力学计算方法
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:科学通报
- 影响因子:--
- 作者:王久丽;张谷令;王友年;刘元富;刘赤子;杨思泽
- 通讯作者:杨思泽
Properties of TiN coating on 45# steel for inner surface modification by grid-enhanced plasma source ion implantation method
45上TiN涂层的性能
- DOI:10.1088/1009-1963/13/8/022
- 发表时间:2004-08
- 期刊:Chin. Phys
- 影响因子:--
- 作者:张谷令;王久丽;刘元富;刘赤子;杨思泽
- 通讯作者:杨思泽
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其他文献
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- 期刊:Phys Stat Sol
- 影响因子:--
- 作者:闫鹏勋;杨思泽
- 通讯作者:杨思泽
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- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:科学通报
- 影响因子:--
- 作者:闫鹏勋;杨思泽
- 通讯作者:杨思泽
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- 发表时间:--
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- 影响因子:--
- 作者:刘斌;杨思泽
- 通讯作者:杨思泽
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铝、%20铝%20氮化物%20和%20铝%20复合%20涂层%20on%200.45%C%20钢%20by%20使用%20a%20等离子体%20源%20离子%20注入%20和%20沉积%20系统
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:Thin Solid Film
- 影响因子:--
- 作者:刘斌;杨思泽
- 通讯作者:杨思泽
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- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:J of Crystal Growth
- 影响因子:--
- 作者:闫鹏勋;杨思泽
- 通讯作者:杨思泽
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