Application of ion beam induced chemical vapor deposition for SiC film formation

离子束诱导化学气相沉积在SiC薄膜形成中的应用

基本信息

批准号：
25287154
负责人：
Yoshimura Satoru
金额：
$ 6.49万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2013
资助国家：
日本
起止时间：
2013-04-01 至 2016-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25287154/
关键词：
SiC イオンビーム CVD ヘテロエピ成長シリコンカーバイド

项目摘要

项目成果

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专利数量（0）

ゼオライトへの低エネルギーインジウムイオン照射と触媒効果

低能铟离子辐照及其对沸石的催化作用

DOI：
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
0
作者：
吉村智; 木内正人; 西本能弘; 安田誠; 馬場章夫; 浜口智志
通讯作者：
浜口智志

Surface modification of poly(methyl methacrylate) by hydrogen-plasma exposure and its sputtering characteristics by ultraviolet light irradiation

氢等离子体曝光聚甲基丙烯酸甲酯表面改性及其紫外光照射溅射特性

DOI：
10.7567/jjap.52.090201
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
S. Yoshimura; K. Ikuse; S. Sugimoto; K. Murai; K. Honjo; M. Kiuchi; S. Hamaguchi
通讯作者：
S. Hamaguchi

Computed multiple tomography for translated field reversed configuration plasma

平移场反向构型等离子体的计算机多重断层扫描

DOI：
10.1109/tps.2014.2321399
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
0
作者：
S. Yoshimura; S. Sugimoto; S. Okada
通讯作者：
S. Okada

Low energy indium or gallium iom beam injection to SiO2 thin films for development of novel catalysts

将低能铟或镓离子束注入 SiO2 薄膜以开发新型催化剂

DOI：
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
0
作者：
S. Yoshimura; M. Kiuchi; Y. Nishimoto; M. Yasuda; A. Baba; S. Hamaguchi
通讯作者：
S. Hamaguchi

Low Energy Indium or Gallium Ion Implantations to SiO2 Thin Films for Development of Novel Catalysts

低能铟或镓离子注入 SiO<sub>2 </sub>薄膜用于新型催化剂的开发

DOI：
10.1380/ejssnt.2014.197
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
0.7
作者：
S. Yoshimura; M. Kiuchi; Y. Nishimoto; M. Yasuda; A. Baba; S. Hamaguchi
通讯作者：
S. Hamaguchi

DOI：
{{ item.doi }}
发表时间：
{{ item.publish_year }}
期刊：
{{ item.journal_name }}
影响因子：
{{ item.factor }}
作者：
{{ item.authors }}
通讯作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ patent.updateTime }}

Yoshimura Satoru其他文献

Observation of clear magnetization and polarization reversal by local electric field in BiFeO3-based multiferroic thin film with using metallic MFM tip with optimized magnetization

使用具有优化磁化的金属 MFM 尖端观察 BiFeO3 基多铁性薄膜中局域电场的清晰磁化和极化反转

DOI：
10.1109/iet-iceta56553.2022.9971567
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Yoshimura Satoru;Egawa Genta
通讯作者：
Egawa Genta

Deposition of Indium Nanoparticles on Powdered Material by Pulse Arc Plasma to Synthesize Catalysts for Friedel-Crafts Alkylation

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DOI：
10.1380/ejssnt.2018.105
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0.7
作者：
Yoshimura Satoru;Nishimoto Yoshihiro;Sugimoto Satoshi;Kiuchi Masato;Yasuda Makoto
通讯作者：
Yasuda Makoto

High temperature exchange bias effect in melt-spun Mn(55)Bi(45)alloys

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DOI：
10.1063/1.4962950
发表时间：
2016
期刊：
Applied Physics Letters
影响因子：
4
作者：
Song Yiming;Xiang Zhen;Wang Taolei;Niu Junchao;Xia Kada;Lu Wei;Zhang Hong;Cao Yongze;Yoshimura Satoru;Saito Hitoshi
通讯作者：
Saito Hitoshi

Effects of injected ion energy on silicon carbide film formation by low-energy SiCH3+ beam irradiation

注入离子能量对低能SiCH3束辐照形成碳化硅薄膜的影响

DOI：
10.1016/j.tsf.2019.06.057
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
2.1
作者：
Yoshimura Satoru;Sugimoto Satoshi;Takeuchi Takae;Murai Kensuke;Kiuchi Masato
通讯作者：
Kiuchi Masato

Low-energy mass-selected ion beam production of fragments from tetraethylorthosilicate for the formation of silicon dioxide film

低能质量选择离子束生产原硅酸四乙酯碎片以形成二氧化硅薄膜

DOI：
10.1016/j.tsf.2018.04.003
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
2.1
作者：
Yoshimura Satoru;Sugimoto Satoshi;Takeuchi Takae;Murai Kensuke;Kiuchi Masato
通讯作者：
Kiuchi Masato