Development of organometallic molecular ion beam deposition method for the stoichiometric crystal growth
化学计量晶体生长有机金属分子离子束沉积方法的发展
基本信息
- 批准号：17H02997
- 负责人：
- 金额：$ 5.82万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2017
- 资助国家：日本
- 起止时间：2017-04-01 至 2020-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
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会议论文数量（0）
专利数量（0）
ヘキサメチルジシラザンの解離フラグメントによる低エネルギーケイ素分子イオンビームの生成
六甲基二硅氮烷解离碎片产生低能硅分子离子束
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：吉村智;杉本敏司;竹内孝江;村井健介;木内正人
- 通讯作者：木内正人
Identification of fragment ions produced from hexamethyldisilazane and production of low-energy mass-selected fragment ion beam
六甲基二硅氮烷产生的碎片离子的鉴定和低能质量选择碎片离子束的产生
- DOI：10.1016/j.nimb.2018.05.040
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Satoru Yoshimura; Satoshi Sugimoto; Takae Takeuchi; Kensuke Murai; Masato Kiuchi
- 通讯作者：Masato Kiuchi
解離フラグメントによる有機金属イオンビームの生成とストイキオメトリ結晶成長
通过离解碎片和化学计量晶体生长产生有机金属离子束
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：吉村智;杉本敏司;竹内孝江;村井健介;木内正人
- 通讯作者：木内正人
Low-energy mass-selected ion beam production of fragments from tetraethylorthosilicate for the formation of silicon dioxide film
低能质量选择离子束生产原硅酸四乙酯碎片以形成二氧化硅薄膜
- DOI：10.1016/j.tsf.2018.04.003
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：2.1
- 作者：Yoshimura Satoru;Sugimoto Satoshi;Takeuchi Takae;Murai Kensuke;Kiuchi Masato
- 通讯作者：Kiuchi Masato
低エネルギー有機ケイ素イオンビームの生成とSiC等成膜への応用
低能有机硅离子束的产生及其在SiC等成膜中的应用
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：吉村智;杉本敏司;竹内孝江;木内正人
- 通讯作者：木内正人
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- 影响因子：0
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- 影响因子：2.1
- 作者：
Yoshimura Satoru;Sugimoto Satoshi;Takeuchi Takae;Murai Kensuke;Kiuchi Masato - 通讯作者：
Kiuchi Masato
Observation of clear magnetization and polarization reversal by local electric field in BiFeO3-based multiferroic thin film with using metallic MFM tip with optimized magnetization
使用具有优化磁化的金属 MFM 尖端观察 BiFeO3 基多铁性薄膜中局域电场的清晰磁化和极化反转
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- 影响因子：0
- 作者：
Yoshimura Satoru;Egawa Genta - 通讯作者：
Egawa Genta
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