Processing of wide-bandgap material with intense EUV light

用强 EUV 光加工宽带隙材料

基本信息

批准号：
17K05727
负责人：
Tanaka Nozomi
金额：
$ 2.83万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2017
资助国家：
日本
起止时间：
2017-04-01 至 2020-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

EMPA (スイス連邦材料試験研究所)(スイス)

EMPA（瑞士联邦材料测试研究所）（瑞士）

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

Creation and Functional Control of Metal Nanoparticle-Polymer Interface by Laser Plasma EUV Light Excitation

通过激光等离子体 EUV 光激发金属纳米粒子-聚合物界面的创建和功能控制

DOI：
10.23919/icep.2018.8374644
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
K. Yasuda; N. Tanaka; N. Wada;H. Nishimura
通讯作者：
H. Nishimura

高強度・高フルエンスパルスEUV光による材料プロセシング

使用高强度、高通量脉冲 EUV 光进行材料加工

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
田中のぞみ
通讯作者：
田中のぞみ

高強度・高フルエンスパルスEUV光による材料プロセシング

使用高强度、高通量脉冲 EUV 光进行材料加工

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
田中のぞみ; 安田清和; 景山恭行; 西村博明
通讯作者：
西村博明

EMPA(スイス)

EMPA（瑞士）

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

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Tanaka Nozomi其他文献

Adsorption of H on Cs/W(110): Impact of H on the Stability of Cs on the Surface

H 在 Cs/W(110) 上的吸附：H 对 Cs 表面稳定性的影响

DOI：
10.1380/ejssnt.2018.391
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0.7
作者：
Abraham B. Padama Allan;Agerico Di?o Wilson;Wada Motoi;Tsumori Katsuyoshi;Kisaki Masashi;Kasai Hideaki;Nakanishi Hiroshi;Sasao Mamiko;Tanaka Nozomi
通讯作者：
Tanaka Nozomi

Genome-Wide Super-Enhancer-Based Analysis: Identification of Prognostic Genes in Oral Squamous Cell Carcinoma

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期刊：
影响因子：
3.5
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通讯作者：
Seki Naohiko

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2022
期刊：
影响因子：
2.3
作者：
Liu Chang;Tanaka Nozomi;Zhu Baojun;Nishihara Katsunobu;Fujioka Shinsuke;Sik Kang Kyung;Suh Youngduk;Kim Jeong;Ozawa Ken;Kubo Minoru
通讯作者：
Kubo Minoru

Genome-Wide Super-Enhancer-Based Analysis: Identification of Prognostic Genes in Oral Squamous Cell Carcinoma

基于全基因组超级增强子的分析：口腔鳞状细胞癌预后基因的鉴定

DOI：
10.3390/ijms23169154
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
5.6
作者：
Saito Tomoaki;Asai Shunichi;Tanaka Nozomi;Nohata Nijiro;Minemura Chikashi;Koma Ayaka;Kikkawa Naoko;Kasamatsu Atsushi;Hanazawa Toyoyuki;Uzawa Katsuhiro;Seki Naohiko
通讯作者：
Seki Naohiko