Process control of magnetic materials for thin film actuator

薄膜致动器磁性材料的过程控制

基本信息

  • 批准号:
    24560859
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.41万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2012
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2012-04-01 至 2015-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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Preparation of Supersaturated Fe–In Alloy Thin Films by Ion-Plating Process
过饱和铁的制备
  • DOI:
    10.2320/matertrans.m2014162
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.2
  • 作者:
    Mao Amano; Yumiko Ezaki; Kadek Fendy Sutrisna; Yoshihito Matsumura
  • 通讯作者:
    Yoshihito Matsumura
Internal stress control of Transition Metal Thin Films
过渡金属薄膜的内应力控制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M. Amano;Y. Ezaki;K.F. Sutrisna;Y. Shinohara;Y.Matsumura;酒井 彰崇,ニヨムワイタヤ チョンラウィット,天野 真央,飯島 貴朗,利根川 昭,松村 義人;田綿 元貴,橋本 真希,豊田 椋一,落合 成行,松村 義人;豊田 椋一,天野 真央,望月 龍馬,飯島 貴朗,利根川 昭,松村 義人;天野 真央,豊田 椋一,松村 義人;天野 真央,ニヨムワイタヤ チョンラウィット,松村 義人;天野 真央,松村 義人;Ryoichi Toyoda,Motoki Tawata,Maki Hashimoto,Yoshihito Matsumura
  • 通讯作者:
    Ryoichi Toyoda,Motoki Tawata,Maki Hashimoto,Yoshihito Matsumura
イオンプレーティング法により作製したアクチュエータ薄膜に対する過剰エネルギーの影響
过剩能量对离子镀法制备致动器薄膜的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Mao Amano; Yumiko Ezaki; Kadek Fendy Sutrisna; Yoshihito Matsumura;天野 真央,ニヨムワイタヤ チョンラウィット,酒井 彰崇,飯島 貴朗,利根川 昭,松村 義人;ニヨムワイタヤ チョンラウィット,酒井 彰崇,天野 真央,江崎 祐美子,松村 義人
  • 通讯作者:
    ニヨムワイタヤ チョンラウィット,酒井 彰崇,天野 真央,江崎 祐美子,松村 義人
薄膜アクチュエータを目的とした過飽和固溶Fe磁歪合金の作製
用于薄膜致动器的过饱和固溶体铁磁致伸缩合金的制备
Effects of Excess Energy on Thin Film Actuator Formation by Ion Plating Process
过量能量对离子镀工艺形成薄膜致动器的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Mao Amano; Yumiko Ezaki; Kadek Fendy Sutrisna; Yoshihito Matsumura;天野 真央,ニヨムワイタヤ チョンラウィット,酒井 彰崇,飯島 貴朗,利根川 昭,松村 義人;ニヨムワイタヤ チョンラウィット,酒井 彰崇,天野 真央,江崎 祐美子,松村 義人;豊田 椋一,宮田 俊平,橋本 真希,坂野 将太,飯島 貴朗,利根川 昭,松村 義人;Mao Amano,Chonlawich NIYOMUWAITAYA,Akitaka SAKAI,Ryoichi TOYODA,Takaaki IIJIMA,Akira Tonegawa,Yoshihito Matsumura;Chonlawich NIYOMUWAITAYA,Akitaka SAKAI,Mao Amano,Yumiko EZAKI,Ryoichi TOYODA,Takaaki IIJIMA,Akira Tonegawa,Yoshihito Matsumura
  • 通讯作者:
    Chonlawich NIYOMUWAITAYA,Akitaka SAKAI,Mao Amano,Yumiko EZAKI,Ryoichi TOYODA,Takaaki IIJIMA,Akira Tonegawa,Yoshihito Matsumura
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  • 作者:
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  • 通讯作者:
    KAWAMURA Kazutaka

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  • 资助金额:
    $ 3.41万
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  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 3.41万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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