Preparation of functional materials via highly efficient and sustainable sputtering system using multi pulse plasma
使用多脉冲等离子体通过高效且可持续的溅射系统制备功能材料
基本信息
- 批准号：23K03817
- 负责人：
- 金额：$ 3万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2023
- 资助国家：日本
- 起止时间：2023-04-01 至 2026-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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木村 高志其他文献
Preparation of hydrogenated diamond-like carbon films by reactive Ar/CH4 high power impulse magnetron sputtering with negative pulse voltage
负脉冲电压反应Ar/CH4高功率脉冲磁控溅射制备氢化类金刚石碳薄膜
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Takashi Kimura,Hikaru Kamata
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- 发表时间：
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- 影响因子：0
- 作者：
鎌田 光速;木村 高志;中尾 節男;東 欣吾 - 通讯作者：
東 欣吾
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高周波プラズマ源を用いた超微細加工処理装置の試作
使用高频等离子体源的超精细加工设备原型
- 批准号：
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高周波プラズマにおける電子エネルギー分布関数の高分解能測定
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HIPIMS制备环境自适应C/MoSx复合润滑薄膜的界面结构调控及摩擦机理
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- 项目类别：面上项目
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相似海外基金
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双极-HiPIMS 控制氮化硼涂层的残余应力
- 批准号：
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Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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20K10053 - 财政年份：2020
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$ 3万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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$ 3万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Understanding the growth mechanism of boron carbon nitride films based on the ion transportation behavior in HiPIMS deischarge
基于 HiPIMS 放电中离子传输行为了解硼碳氮化物薄膜的生长机制
- 批准号：
17KK0136 - 财政年份：2018
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$ 3万 - 项目类别：
Fund for the Promotion of Joint International Research (Fostering Joint International Research)
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用于高级功能涂层的 HiPIMS-CVD 混合工艺：概念验证
- 批准号：
EP/N031717/1 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
Research Grant