Preparation of functional materials via highly efficient and sustainable sputtering system using multi pulse plasma

使用多脉冲等离子体通过高效且可持续的溅射系统制备功能材料

基本信息

  • 批准号：
    23K03817
  • 负责人：
    木村 高志
  • 金额：
    $ 3万
  • 依托单位：
    Nagoya Institute of Technology
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份：
    2023
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2023-04-01 至 2026-03-31
  • 项目状态：
    未结题

项目摘要

暂无数据

项目成果

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数据更新时间：2024-06-01

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  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    鎌田 光速;木村 高志;中尾 節男;東 欣吾
    鎌田 光速;木村 高志;中尾 節男;東 欣吾
  • 通讯作者：
    東 欣吾
    東 欣吾
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