Development of De-molding Agent-Free Resin Mold for UV Nanoimprint

UV纳米压印无脱模剂树脂模具的研制

• 批准号: 23655218
• 负责人: SHIRAI Masamitsu
• 金额: $ 2.5万
• 依托单位: Osaka Prefecture University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011 至 2012
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23655218/
• 关键词: UVインプリント; 樹脂モールド; レプリカモールド; 離型剤フリー; 分解性光硬化樹脂; 複製樹脂モールド; 分解型光硬化樹脂; ＵＶインプリント; 表面特性

The fouling of the quartz mold during the UV imprint process is a serious problem. A process for making the replicated resin mold was established. Furthermore, the replicated resin mold which was not required a treatment with de-molding agent was devised. A relationship between the surface property of the reinmold and that of the UV cured resin surface was evaluated.

在UV烙印过程中，石英模具的结垢是一个严重的问题。建立了复制树脂模具的过程。此外，设计了不需要用脱焊剂处理的复制树脂模具。评估了重齿的表面特性与紫外线固化的树脂表面的关系之间的关系。

项目成果

Novel Monomers with Degradable Property and Their Applications to UV Imprint Lithography

新型可降解单体及其在紫外压印光刻中的应用

• 发表时间: 2011
• 作者: Jun Nozawa;Katsuo Tsukamoto;Willem van Enckevort;Tomoki Nakamura;Yuki Kimura, Hitoshi Miura;Hisao Satoh,Ken Nagashima;Makoto Konoto;M. Shirai
• 通讯作者: M. Shirai

Novel Resin Mold for UV nanoimprint: A Demolding Agent Free System

用于 UV 纳米压印的新型树脂模具：无脱模剂系统

• 发表时间: 2011
• 作者: Yuki Kimura;K.K. Tanaka;H. Miura;K. Tsukamoto;M. Shirai;M. Shirai
• 通讯作者: M. Shirai

リワーク型多官能メタクリラートのＵＶインプリント材料への応用

改性多功能甲基丙烯酸酯在UV压印材料中的应用

• 发表时间: 2011
• 作者: 松川大作;村上雄基;岡村晴之;白井正充
• 通讯作者: 白井正充

Photoacid and Photobase Generators for UV Curing

用于紫外线固化的光酸和光碱发生器

• 发表时间: 2012
• 作者: 李 昊;中治光童;木場隆之;五十嵐誠;寒川誠二;佐久間実緒;上野貢生;三澤弘明;村山明宏;土田裕也,村谷直紀,柳瀬隆,長浜太郎,島田敏宏;M. Shirai
• 通讯作者: M. Shirai

UV Curing of Reworkable Resin: Analysis of Chain Propagation

可再加工树脂的 UV 固化：链传播分析

• 发表时间: 2011
• 作者: D. Matsukawa;H. Okamura; M. Shirai
• 通讯作者: M. Shirai