DevelopmentofHeat-Resistant Hard CarbonFilmsUtilizedFor Tribological Usages

用于摩擦学用途的耐热硬碳薄膜的开发

• 批准号: 22560147
• 负责人: WATANABE Shuichi
• 金额: $ 2.75万
• 依托单位: Nippon Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2010
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2010 至 2012
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22560147/
• 关键词: トライボロジー; 耐熱性; ナノコンポジット; 微細構造; DLC 膜; 三次元イオン注入処理; ナノ材料; 材料加工・処理; DLC; 三次元イオン注入; 表面・界面物性; コーティング; 耐摩耗性

In this study , the silicon- and oxygen- doped, and the silicon- andnitrogen- doped diamond-like carbon (Si-O-DLC and Si-N-DLC) films are chosen to takeinto account the thermal stability and Tribological performance compared with pure DLC.The results indicate that Si-N-DLC films present the better thermal stability due to thepresence of Si-O network in the films. Furthermore, Si-O-DLC and Si-N-DLC films exhibitthe excellent Tribological performance. It can be concluded that Si-O-DLC and Si-N-DLCfilms can improve the thermal stability and Tribological performance.

在这项研究中，选择硅和氧掺杂以及硅和氮掺杂的类金刚石碳（Si-O-DLC 和 Si-N-DLC）薄膜是为了考虑与相比的热稳定性和摩擦学性能。结果表明，由于薄膜中Si-O网络的存在，Si-N-DLC薄膜表现出更好的热稳定性。此外，Si-O-DLC和Si-N-DLC薄膜表现出优异的摩擦学性能。可以得出结论，Si-O-DLC 和 Si-N-DLC 薄膜可以提高热稳定性和摩擦学性能。

项目成果

DLC 膜の耐熱性改善の試み

提高DLC薄膜耐热性的尝试

• 发表时间: 2012
• 作者: 李祥暉;安部慎也;渡部修一
• 通讯作者: 渡部修一

Thermal Properties of C-Si-O Composite ThinFilms Deposited by PBII Method

PBII法沉积C-Si-O复合薄膜的热性能

• 发表时间: 2011
• 作者: S. Abe;N. Moolsradoo and S. Watanabe
• 通讯作者: N. Moolsradoo and S. Watanabe

DLC膜の表面特性に及ぼす添加元素の影響

添加元素对DLC薄膜表面性能的影响

• 发表时间: 2010
• 作者: 佐藤浩史;ナッタナン ムルスラドゥ;渡部修一
• 通讯作者: 渡部修一

C-Si-O系薄膜のESR評価

C-Si-O薄膜的ESR评估

• 发表时间: 2011
• 作者: 佐藤浩史;ナッタナン ムルスラドゥ;渡部修一
• 通讯作者: 渡部修一

ESRStudy of Elements Added-DLC Films Depositedby PBII and RF-CVD Methods

PBII和RF-CVD方法沉积添加元素的DLC薄膜的ESR研究

• 发表时间: 2010
• 期刊: Advance inScience and Technology
• 作者: N. Moolsradoo;H. Sato and S. Watanabe
• 通讯作者: H. Sato and S. Watanabe