ナノトームFIB装置用セクター型ウィーンフィルターの試作

用于纳米切片 FIB 装置的扇形维恩滤波器原型

基本信息

批准号：
08555010
负责人：
高井義造
金额：
$ 1.34万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
1996
资助国家：
日本
起止时间：
1996 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究では、我々がすでに試作完成しているFIBナノトーム(集束イオンビーム加工装置)に、セクター型ウイーンフィルタを取り付け、微細加工精度を低下させている中性原子ビームを取り除き、高分解能透過電子顕微鏡観察に応える超薄切片を作製しうる装置に改良することを目的としている。本研究で得られて成果を以下に列挙する。(1)エイコーエンジニアリングと共同で試作開発したセクター型ウイーンフィルターにより中性ビームを100%取り除くことに成功した。(2)その結果、集束イオンビームによる加工精度は50nmから20nmに向上した。現在はこの装置を用いて、各種界面の透過電子顕微鏡観察用サンプルを作製しており、構造解析の結果を論文にして発表している。(1)ダイヤモンド/ダイヤモンドのホモエピタキシャル界面の試料作製に成功した。界面には転位ループが局在し、特定方位に配列した転位ループ群が発見された。(論文1)(2)ダイヤモンド/プラチナのへヘテロエピタキシャル界面の試料作製に成功した。界面にはグラファイト層が見つかり、界面上方にプラチナのかけらが多く存在する複雑な構造をしていた。プラチナとダイヤモンドの接触がヘテロエピタキシャル機構に重要であることが結論された。(論文2、5)(3)シリコンの初期酸化機構の解明のために自然酸化膜の界面構造解析をし、界面ラフネスと酸化膜の信頼性の間に重要な関連があることが判明した。(論文審査中)(4)オゾン酸化膜界面の試料作製に成功し、極めてフラットで高品質の酸化膜が形成されていることを明らかにした。(論文審査中)

在这项研究中，我们在已经完成原型的FIB纳米刀（聚焦离子束加工装置）上安装了扇形维恩滤波器，以去除降低微加工精度的中性原子束，并实现高加工性能。 -分辨率透射电子显微镜。目的是改进设备以创建适合观察的超薄切片。本研究获得的结果如下所示。 (1) 我们使用与 Eiko Engineering 共同开发的扇形维也纳滤波器成功地去除了 100% 的中性光束。 (2)结果，聚焦离子束的加工精度从50nm提高到20nm。目前，我们正在使用该设备制作各种界面的透射电子显微镜样品，并将结构分析结果发表在论文中。 (1)我们成功制作了金刚石/金刚石同质外延界面的样品。发现位错环位于界面处，并且发现了沿特定方向排列的位错环组。（论文1）（2）我们成功制作了金刚石/铂异质外延界面的样品。在界面处发现了石墨层，其结构复杂，界面上方有许多铂碎片。结论是铂-金刚石接触对于异质外延机制很重要。 (论文2, 5) (3) 为了阐明硅的初始氧化机理，我们分析了自然氧化膜的界面结构，发现界面粗糙度与氧化膜可靠性之间存在着重要的关系。（审稿中的论文）（4）我们成功地制备了臭氧氧化膜界面的样品，发现形成了极其平坦且高质量的氧化膜。（论文正在审稿中）