Development of advanced soft x-ray focusing system with a symmetric rotational mirror

开发带有对称旋转镜的先进软X射线聚焦系统

基本信息

批准号：
15H02041
负责人：
Mimura Hidekazu
金额：
$ 26.46万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
起止时间：
2015-04-01 至 2019-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（92）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Three-dimensional Shape Measurement for X-ray Ellipsoidal Mirror

X射线椭球镜三维形状测量

DOI：
10.1117/12.2273666
发表时间：
2017
期刊：
Proceeding of SPIE
影响因子：
0
作者：
T. Kume;Y. Takei;S. Egawa;G. Yamaguchi;H. Motoyama;and H. Mimura,
通讯作者：
and H. Mimura,

Evaluation of surface figure error profile of ultra-precise ellipsoidal mirror for soft X-ray focusing

软X射线聚焦超精密椭球镜面形误差轮廓评估

DOI：
10.1117/12.2188824
发表时间：
2016
期刊：
Proceeding of SPIE
影响因子：
0
作者：
Y. Takeo;T. Saito;H. Mimura
通讯作者：
H. Mimura

回転楕円ミラーによる高次高調波集光システムの開発

使用球面镜的高次谐波聚焦系统的开发

DOI：
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
0
作者：
武井良憲，三村秀和;武井良憲，三村秀和;久米健大，武井良憲，三村秀和;本山央人，岩崎純史，佐藤堯洋，武井良憲，久米健大，江川悟，山内薫，三村秀和
通讯作者：
本山央人，岩崎純史，佐藤堯洋，武井良憲，久米健大，江川悟，山内薫，三村秀和

回転楕円ミラー用マンドレルの形状計測装置の開発とその形状修正加工

球面镜心轴形状测量装置的研制及其形状修正加工

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
Hidekazu Mimura;Yoshinori Takei;Takahiro Saito;Takehiro Kume;Hiroto Motoyama;Satoru Egawa;Yoko Takeo;Takahiro Higashi;武井良憲，東隆裕，三村秀和
通讯作者：
武井良憲，東隆裕，三村秀和

Electroforming process specialized for fabrication of x-ray ellipsoidal mirror

专门用于制造 X 射线椭球面镜的电铸工艺

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Kume;S. Egawa;Y. Takeo;and H. Mimura
通讯作者：
and H. Mimura

DOI：
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作者：
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Mimura Hidekazu其他文献

An arrayed-window microfluidic device for observation of mixed nanoparticles with an X-ray free-electron laser

用于使用 X 射线自由电子激光观察混合纳米粒子的阵列窗口微流控装置

DOI：
10.1007/s10043-021-00716-x
发表时间：
2022
期刊：
Optical Review
影响因子：
1.2
作者：
Matsumoto Yutaka;Takeo Yoko;Egawa Satoru;Yamaguchi Gota;Yokomae Shunya;Takei Masashi;Yumoto Hirokatsu;Koyama Takahisa;Ohashi Haruhiko;Tono Kensuke;Yabashi Makina;Mimura Hidekazu;Kimura Takashi
通讯作者：
Kimura Takashi

Fabrication of ultrashort sub-meter-radius x-ray mirrors using dynamic stencil deposition with figure correction

使用动态模板沉积和图形校正制造超短亚米半径 X 射线反射镜

DOI：
10.1063/5.0135367
发表时间：
2023
期刊：
Review of Scientific Instruments
影响因子：
1.6
作者：
Shimamura Takenori;Takeo Yoko;Kimura Takashi;Perrin Francois;Vivo Amparo;Senba Yasunori;Kishimoto Hikaru;Ohashi Haruhiko;Mimura Hidekazu
通讯作者：
Mimura Hidekazu

Surface processing of PMMA and metal nano-particle resist by sub-micrometer focusing of coherent extreme ultraviolet high-order harmonics pulses

通过亚微米聚焦相干极紫外高次谐波脉冲对 PMMA 和金属纳米粒子抗蚀剂进行表面处理

DOI：
10.1364/ol.392695
发表时间：
2020
期刊：
Optics Letters
影响因子：
3.6
作者：
Sakaue Kazuyuki;Motoyama Hiroto;Hayashi Ryosuke;Iwasaki Atsushi;Mimura Hidekazu;Yamanouchi Kaoru;Shibuya Tatsunori;Ishino Masahiko;Dinh Thanh-Hung;Ogawa Hiroshi;Higashiguchi Takeshi;Nishikino Masaharu;Kuroda Ryunosuke
通讯作者：
Kuroda Ryunosuke

Submicron structures created on Ni thin film by submicron focusing of femtosecond EUV light pulses

通过飞秒 EUV 光脉冲的亚微米聚焦在镍薄膜上创建亚微米结构

DOI：
10.35848/1882-0786/acaebe
发表时间：
2023
期刊：
Applied Physics Express
影响因子：
2.3
作者：
Motoyama Hiroto;Iwasaki Atsushi;Mimura Hidekazu;Yamanouchi Kaoru
通讯作者：
Yamanouchi Kaoru

Design of soft x-ray fluorescence microscopy beyond 100-nm spatial resolution with ultrashort Kirkpatrick-Baez mirror

使用超短 Kirkpatrick-Baez 镜设计超过 100 nm 空间分辨率的软 X 射线荧光显微镜

DOI：
10.1117/12.2632949
发表时间：
2022
期刊：
Advances in X-Ray/EUV Optics and Components XVII
影响因子：
0
作者：
Shimamura Takenori;Takeo Yoko;Moriya Fumika;Kimura Takashi;Shimura Mari;Senba Yasunori;Kishimoto Hikaru;Ohashi Haruhiko;Shimba Kenta;Jimbo Yasuhiko;Mimura Hidekazu
通讯作者：
Mimura Hidekazu