Development of 1 nm X-ray focusing system

1 nm X射线聚焦系统的开发

基本信息

批准号：
20K20444
负责人：
Mimura Hidekazu
金额：
$ 16.39万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Pioneering)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
起止时间：
2019-06-28 至 2023-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（24）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

差分成膜法による超小型X線集光ミラーの作製

微分薄膜沉积法制作超小型X射线聚焦镜

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
島村勇徳;竹尾陽子;木村隆志;仙波泰徳;岸本輝;大橋治彦;三村秀和
通讯作者：
三村秀和

Development of ultrashort Kirkpatrick-Baez mirrors for sub-50-nm achromatic soft-X-ray probes

开发用于亚 50 nm 消色差软 X 射线探头的超短 Kirkpatrick-Baez 反射镜

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Shimamura;Y. Takeo;T. Kimura;M. Shimura;Y. Senba;H. Kishimoto;H. Ohashi;and H. Mimura
通讯作者：
and H. Mimura

Fabrication of ultra-small mirrors for soft-X-ray nano-focusing by differential deposition

微分沉积法制造用于软X射线纳米聚焦的超小反射镜

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Shimamura;H. Mimura,
通讯作者：
H. Mimura,

Development of Small Kirkpatrick-Baez Mirror System for Nano-Focusing of X-Rays

开发用于 X 射线纳米聚焦的小型 Kirkpatrick-Baez 镜系统

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Shimamura; H. Mimura
通讯作者：
H. Mimura

Fabrication of ultrashort sub-meter-radius x-ray mirrors using dynamic stencil deposition with figure correction

使用动态模板沉积和图形校正制造超短亚米半径 X 射线反射镜

DOI：
10.1063/5.0135367
发表时间：
2023
期刊：
Review of Scientific Instruments
影响因子：
1.6
作者：
Shimamura Takenori;Takeo Yoko;Kimura Takashi;Perrin Francois;Vivo Amparo;Senba Yasunori;Kishimoto Hikaru;Ohashi Haruhiko;Mimura Hidekazu
通讯作者：
Mimura Hidekazu

DOI：
{{ item.doi }}
发表时间：
{{ item.publish_year }}
期刊：
{{ item.journal_name }}
影响因子：
{{ item.factor }}
作者：
{{ item.authors }}
通讯作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ patent.updateTime }}

Mimura Hidekazu其他文献

An arrayed-window microfluidic device for observation of mixed nanoparticles with an X-ray free-electron laser

用于使用 X 射线自由电子激光观察混合纳米粒子的阵列窗口微流控装置

DOI：
10.1007/s10043-021-00716-x
发表时间：
2022
期刊：
Optical Review
影响因子：
1.2
作者：
Matsumoto Yutaka;Takeo Yoko;Egawa Satoru;Yamaguchi Gota;Yokomae Shunya;Takei Masashi;Yumoto Hirokatsu;Koyama Takahisa;Ohashi Haruhiko;Tono Kensuke;Yabashi Makina;Mimura Hidekazu;Kimura Takashi
通讯作者：
Kimura Takashi

Surface processing of PMMA and metal nano-particle resist by sub-micrometer focusing of coherent extreme ultraviolet high-order harmonics pulses

通过亚微米聚焦相干极紫外高次谐波脉冲对 PMMA 和金属纳米粒子抗蚀剂进行表面处理

DOI：
10.1364/ol.392695
发表时间：
2020
期刊：
Optics Letters
影响因子：
3.6
作者：
Sakaue Kazuyuki;Motoyama Hiroto;Hayashi Ryosuke;Iwasaki Atsushi;Mimura Hidekazu;Yamanouchi Kaoru;Shibuya Tatsunori;Ishino Masahiko;Dinh Thanh-Hung;Ogawa Hiroshi;Higashiguchi Takeshi;Nishikino Masaharu;Kuroda Ryunosuke
通讯作者：
Kuroda Ryunosuke

Submicron structures created on Ni thin film by submicron focusing of femtosecond EUV light pulses

通过飞秒 EUV 光脉冲的亚微米聚焦在镍薄膜上创建亚微米结构

DOI：
10.35848/1882-0786/acaebe
发表时间：
2023
期刊：
Applied Physics Express
影响因子：
2.3
作者：
Motoyama Hiroto;Iwasaki Atsushi;Mimura Hidekazu;Yamanouchi Kaoru
通讯作者：
Yamanouchi Kaoru

Design of soft x-ray fluorescence microscopy beyond 100-nm spatial resolution with ultrashort Kirkpatrick-Baez mirror

使用超短 Kirkpatrick-Baez 镜设计超过 100 nm 空间分辨率的软 X 射线荧光显微镜

DOI：
10.1117/12.2632949
发表时间：
2022
期刊：
Advances in X-Ray/EUV Optics and Components XVII
影响因子：
0
作者：
Shimamura Takenori;Takeo Yoko;Moriya Fumika;Kimura Takashi;Shimura Mari;Senba Yasunori;Kishimoto Hikaru;Ohashi Haruhiko;Shimba Kenta;Jimbo Yasuhiko;Mimura Hidekazu
通讯作者：
Mimura Hidekazu

特集にあたって（特集　世帯のなかに隠れた貧困―女性の貧困をいかに捉えるか）

关于专题（专题：家庭中的隐性贫困——如何认识女性的贫困）

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
大原社会問題研究所雑誌
影响因子：
0
作者：
Matsumoto Yutaka;Takeo Yoko;Egawa Satoru;Yamaguchi Gota;Yokomae Shunya;Takei Masashi;Yumoto Hirokatsu;Koyama Takahisa;Ohashi Haruhiko;Tono Kensuke;Yabashi Makina;Mimura Hidekazu;Kimura Takashi;宇野重規;鳥山まどか
通讯作者：
鳥山まどか