The development of a high-efficiency polishing technology using small tool under electric field

电场下小工具高效抛光技术的研制

• 批准号: 19K04118
• 负责人: Ikeda Hiroshi
• 金额: $ 2.75万
• 依托单位: Akita National College of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2019
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2019-04-01 至 2023-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19K04118/
• 关键词: 電界; 砥粒; スラリー; 研磨; 非球面レンズ; 半導体ウエハ; スモールツール; CMP; ガラス基板; シリコンウエハ; 研磨パッド; 創成研磨

项目成果

電界スラリー制御技術を適用したスモールツールの基本的研磨特性

采用电场浆料控制技术的小型刀具的基本抛光特性

• 发表时间: 2020
• 作者: 安斎聡;岩井学，山下凌大，市川可奈子，神谷和秀，関口有揮，二ノ宮進一;山下凌大，市川可奈子，安斎聡，岩井学，原田武則，山田邦治，遠藤慶輝，二ノ宮進一;久住孝幸，越後谷 正見，池田洋，細川遥花，中村竜太，大久保義真，赤上陽一;池田洋，野澤正和，櫻田陽，久住孝幸，越後谷正美，赤上陽一;池田洋，遠藤大輔，久住孝幸，赤上陽一;佐藤 唯我，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;船木陸，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;佐藤 唯我，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;船木陸，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;船木陸,池田洋,久住孝幸,赤上陽一
• 通讯作者: 船木陸,池田洋,久住孝幸,赤上陽一

スモールツールによる新たな高効率修正研磨技術の創出

使用小型工具创建新型高效矫正抛光技术

• 发表时间: 2021
• 作者: 安斎聡;岩井学，山下凌大，市川可奈子，神谷和秀，関口有揮，二ノ宮進一;山下凌大，市川可奈子，安斎聡，岩井学，原田武則，山田邦治，遠藤慶輝，二ノ宮進一;久住孝幸，越後谷 正見，池田洋，細川遥花，中村竜太，大久保義真，赤上陽一;池田洋，野澤正和，櫻田陽，久住孝幸，越後谷正美，赤上陽一;池田洋，遠藤大輔，久住孝幸，赤上陽一;佐藤 唯我，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;船木陸，池田洋，久住孝幸，赤上陽一
• 通讯作者: 船木陸，池田洋，久住孝幸，赤上陽一

電界砥粒制御を適用したサファイア基板向け高効率研磨技術の開発

利用电场磨料控制的蓝宝石衬底高效抛光技术的开发

• 发表时间: 2020
• 作者: 安斎聡;岩井学，山下凌大，市川可奈子，神谷和秀，関口有揮，二ノ宮進一;山下凌大，市川可奈子，安斎聡，岩井学，原田武則，山田邦治，遠藤慶輝，二ノ宮進一;久住孝幸，越後谷 正見，池田洋，細川遥花，中村竜太，大久保義真，赤上陽一;池田洋，野澤正和，櫻田陽，久住孝幸，越後谷正美，赤上陽一;池田洋，遠藤大輔，久住孝幸，赤上陽一;佐藤 唯我，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;船木陸，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;佐藤 唯我，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;船木陸，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;船木陸,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;佐藤唯我,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;遠藤大輔,池田洋,久住孝幸,赤上陽一
• 通讯作者: 遠藤大輔,池田洋,久住孝幸,赤上陽一

電界砥粒制御技術を適用したサファイア基板の研磨特性

电场磨料控制技术蓝宝石衬底抛光特性

• 发表时间: 2019
• 作者: 安斎聡;岩井学，山下凌大，市川可奈子，神谷和秀，関口有揮，二ノ宮進一;山下凌大，市川可奈子，安斎聡，岩井学，原田武則，山田邦治，遠藤慶輝，二ノ宮進一;久住孝幸，越後谷 正見，池田洋，細川遥花，中村竜太，大久保義真，赤上陽一;池田洋，野澤正和，櫻田陽，久住孝幸，越後谷正美，赤上陽一;池田洋，遠藤大輔，久住孝幸，赤上陽一;佐藤 唯我，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;船木陸，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;佐藤 唯我，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;船木陸，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;船木陸,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;佐藤唯我,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;遠藤大輔,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;佐藤唯我,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;遠藤大輔,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;船木陸,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;池田 洋，奈良泰七，三浦辰徳，久住孝幸，越後谷正美，赤上陽一;池田 洋，大橋 儀宗，久住孝幸，越後谷正美，赤上陽一;大橋 儀宗，池田 洋，久住 孝幸，越後谷 正見，赤上 陽一;遠藤 大輔，池田 洋，久住 孝幸，越後谷 正見，赤上 陽一
• 通讯作者: 遠藤 大輔，池田 洋，久住 孝幸，越後谷 正見，赤上 陽一

電界スラリー制御技術を適用したSi 向け小型片面研磨装置の開発

采用电场浆料控制技术开发紧凑型硅单面抛光设备

• 发表时间: 2019
• 作者: 安斎聡;岩井学，山下凌大，市川可奈子，神谷和秀，関口有揮，二ノ宮進一;山下凌大，市川可奈子，安斎聡，岩井学，原田武則，山田邦治，遠藤慶輝，二ノ宮進一;久住孝幸，越後谷 正見，池田洋，細川遥花，中村竜太，大久保義真，赤上陽一;池田洋，野澤正和，櫻田陽，久住孝幸，越後谷正美，赤上陽一;池田洋，遠藤大輔，久住孝幸，赤上陽一;佐藤 唯我，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;船木陸，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;佐藤 唯我，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;船木陸，池田洋，久住孝幸，赤上陽一;船木陸,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;佐藤唯我,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;遠藤大輔,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;佐藤唯我,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;遠藤大輔,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;船木陸,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;池田 洋，奈良泰七，三浦辰徳，久住孝幸，越後谷正美，赤上陽一;池田 洋，大橋 儀宗，久住孝幸，越後谷正美，赤上陽一
• 通讯作者: 池田 洋，大橋 儀宗，久住孝幸，越後谷正美，赤上陽一