Development of innovative high-efficiency, high-quality finishing method due to the electric field high speed CMP technology

利用电场高速 CMP 技术开发创新的高效、高质量精加工方法

• 批准号: 24560151
• 负责人: AKAGAMI Yoichi
• 金额: $ 3.41万
• 依托单位: Akita Industrial Technology Center
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2012-04-01 至 2015-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24560151/
• 关键词: 研磨; スラリー; サファイア; 電界砥粒制御研磨技術; ＣＭＰ; 電界砥粒制御技術; 遊離砥粒研磨; 砥粒; 電界

项目成果

電界砥粒制御技術が拓く新たな産業応用への展開

电场磨料控制技术开发的新型工业应用

• 作者: 久住孝幸;佐藤安弘;池田洋;赤上陽一;梅原徳次;久住孝幸;久住孝幸;久住孝幸;中村竜太;久住孝幸;赤上陽一
• 通讯作者: 赤上陽一

The Development of AC Electric Field Assisted Polishing for Silicon Carbide Substrates with Control of Abrasive Behavior

控制研磨行为的碳化硅基片交流电场辅助抛光的研究进展

• DOI: 10.2493/jjspe.79.87
• 发表时间: 2013
• 期刊: Journal of the Japan Society for Precision Engineering
• 作者: 久住孝幸;佐藤安弘;池田洋;赤上陽一;梅原徳次
• 通讯作者: 梅原徳次

電界砥粒制御技術を用いた単結晶サファイア基板の高効率研磨加工―第１報―

利用电场磨料控制技术高效抛光单晶蓝宝石衬底 - 第一篇报告 -

• 发表时间: 2014
• 作者: 久住孝幸;佐藤安弘;池田洋;赤上陽一;梅原徳次;久住孝幸;久住孝幸
• 通讯作者: 久住孝幸

電界砥粒制御技術による研磨効率向上メカニズムの基礎検討 -第2報-

电场磨料控制技术提高抛光效率机理的基础研究-第二次报告-

• 作者: 久住孝幸;佐藤安弘;池田洋;赤上陽一;梅原徳次;久住孝幸;久住孝幸;久住孝幸;中村竜太;久住孝幸;赤上陽一;久住孝幸，新井晶大， 佐藤安弘，赤上陽一， 梅原徳次
• 通讯作者: 久住孝幸，新井晶大， 佐藤安弘，赤上陽一， 梅原徳次

炭化ケイ素研磨材を用いた電界砥粒制御技術の基礎検討 ‐第3報-

使用碳化硅磨料的电场磨料控制技术的基础研究-第三次报告-

• 发表时间: 2014
• 作者: 久住孝幸;佐藤安弘;池田洋;赤上陽一;梅原徳次;久住孝幸;久住孝幸;久住孝幸;中村竜太;久住孝幸
• 通讯作者: 久住孝幸