Electric field activated slurry polishing technique

电场激活浆料抛光技术

基本信息

  • 批准号:
    15K05745
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.08万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2015
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2015-04-01 至 2018-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Electric field activation technology for polishing slurry
抛光液电场活化技术
研磨スラリーの電界活性化技術
抛光液电场活化技术
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    久住孝幸; 池田洋; 越後谷正見;中村竜太;赤上陽一
  • 通讯作者:
    赤上陽一
コロイダルシリカスラリーの電界活性化技術
胶态二氧化硅浆料电场活化技术
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    久住 孝幸;池田 洋;越後谷 正見;中村 竜太;赤上 陽一;池田遼,西田均,山本久嗣,百生登;久住孝幸,中村竜太,赤上陽一;西田均;笹木遼馬,木村暢秀,山本久嗣,西田均,百生登;久住 孝幸 中村 竜太,赤上 陽一
  • 通讯作者:
    久住 孝幸 中村 竜太,赤上 陽一
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