Development of Isolable Group-14 Element Species That Contains a Single Pi-Bonding

包含单个 Pi 键的可分离 14 族元素种类的开发

基本信息

  • 批准号:
    20K21185
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 4.16万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
  • 财政年份:
    2020
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2020-07-30 至 2024-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

π型のC-C単結合をもつ化合物の有力な前駆体である2,4-ジシラビシクロ[1.1.0]ブト-1(3)-エンの構造異性体、1,4-ジシラブタトリエンを、空気中不安定な化合物として合成単離した。この化合物の合成は、安定ジアルキルシリレンとハロアルケンから多段階で調製された、両端にハロシリル基を持つアセチレンの還元的脱ハロゲン化により達成された。結晶中で、この化合物の不飽和ケイ素-炭素-炭素-ケイ素部分は直線構造を取っていた。またこの部分のケイ素-炭素間および炭素-炭素間の距離はどちらも一般的なケイ素-炭素二重結合および炭素-炭素二重結合距離の範囲内にあった。詳細な理論計算の結果、得られた1,4-ジシラブタトリエンは、目的化合物である2,4-ジシラビシクロ[1.1.0]ブト-1(3)-エンよりもエネルギー的に安定であることが求められ、実験結果と矛盾がないことが確かめられた。また、π型のゲルマニウム-ゲルマニウム単結合をもつと期待される、1,3-ジゲルマ-2,4-ジシラビシクロ[1.1.0]ブタンの合成を、安定ジアルキルシリレンとアリールトリクロロゲルマンとの付加体の還元反応を用いて試みた。その結果、ナトリウムを用いた還元的脱クロロ化により、目的化合物の異性体である(シリル)ジゲルマシラシクロプロペンが生成することを見出した。その分子構造をX線構造解析で確かめた。理論計算の結果、得られた(シリル)ジゲルマシラシクロプロペンは目的化合物よりも安定であることが確かめられた。
1,4-二甲状腺素[1.1.0] but-1(3)-Ene,结构性异构体为2,4-二甲状腺素[1.1.0] but-1(3)-Ene,一种具有π-type c-c-c-c-c-c-c-c-c-c-c-c-c-c-c-C-C-C-C-C-C-C-C-C-C-C-C-C-C-C-C-C-C-C-C-C-C-单键的前体。该化合物的合成是通过在两端用卤子基组还原乙酰烯乙烯的乙二烯来实现的,这是在稳定的二烷基甲硅烷基和卤代烯烃的多个阶段制备的。在晶体中,该化合物的不饱和硅碳 - 碳硅硅硅硅硅具有线性结构。此外,该部分中的硅碳和碳碳距离都在一般的硅碳双键和碳碳双键距离内。详细的理论计算表明,所获得的1,4-二甲硅烷二酰胺必须比目标化合物2,4-二甲状腺素[1.1.0] but-1(3) - 烯更稳定,并且可以确定与实验结果没有矛盾的矛盾。此外,使用稳定的dialkylenelenelene和芳基氯甘氨酸的加合物的还原反应,尝试尝试将1,3-二维 - 2,4-二甲状腺素[1.1.0]丁烷[1.1.0]丁烷[1.1.0]丁烷进行。结果,发现使用钠的二甘油二甲苯二苯丙烯是靶化合物的异构体的还原性脱氯化。通过X射线结构分析证实了分子结构。理论计算证实,所获得的(Silyl)二甲硅烷基环丙烯比靶化合物更稳定。

项目成果

期刊论文数量(21)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
反転した立体配置のGe=Ge結合をもつ安定化合物の合成研究
具有倒构型Ge=Ge键的稳定化合物的合成研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2023
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    塩島 拓朗;岩本 武明
  • 通讯作者:
    岩本 武明
反転Si=Si結合を持つジシレンと求核試薬の反応
二硅烯与反向 Si=Si 键和亲核试剂的反应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    糠澤拓実;岩本武明
  • 通讯作者:
    岩本武明
Synthesis, Structure and Electronic Properties of a Stable π‐Type 3‐Electron‐2‐Center‐Bonded Species: A Silicon Analogue of a Bicyclo[1.1.0]butane Radical Anion
稳定π型3-电子-2-中心键合物质的合成、结构和电子性质:双环[1.1.0]丁烷自由基阴离子的硅类似物
  • DOI:
    10.1002/anie.202117584
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Koike Taichi;Osawa Raiki;Ishida Shintaro;Iwamoto Takeaki
  • 通讯作者:
    Iwamoto Takeaki
ケイ素-ケイ素π単結合を組み込んだπ共役系化合物の合成
含有硅-硅π单键的π共轭化合物的合成
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    糠澤拓実;岩本武明
  • 通讯作者:
    岩本武明
低配位有機ケイ素化学種の構造有機化学
低配位有机硅的结构有机化学
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    岩本武明
  • 通讯作者:
    岩本武明
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ケイ素上にアルキル基が置換したケイ素―ホウ素二重結合化合物の合成と反応性
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  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
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  • 通讯作者:
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  • 发表时间:
    2021
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    牛嶋 祐哉;岩本 武明
  • 通讯作者:
    岩本 武明

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    2023
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    $ 4.16万
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    $ 4.16万
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    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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    15750025
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 4.16万
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    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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  • 批准号:
    12740336
  • 财政年份:
    2000
  • 资助金额:
    $ 4.16万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)

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ケイ素-ケイ素π単結合の結合長変化を利用したπ結合の構造、性質の解明
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    2021
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    21J13028
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    2021
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    20J21205
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    2020
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    $ 4.16万
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硼素・炭素・窒素複合六方晶系超硬質砥粒の爆発合成と切削加工への応用
硼碳氮复合六方超硬磨粒的爆炸合成及其在切削加工中的应用
  • 批准号:
    20K05162
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    2020
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    $ 4.16万
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    2019
  • 资助金额:
    $ 4.16万
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知道了