Study of novel III-VI buffer layer for GaAs/Si monolithic solar cells

GaAs/Si单片太阳能电池新型III-VI族缓冲层的研究

基本信息

  • 批准号:
    15K05998
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2015
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2015-04-01 至 2018-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量(0)
Novel Epitaxial GaAs Lift-Off Approach via van der Waals Interface in In2Se3 Buffer Layer
通过 In2Se3 缓冲层中范德华界面的新型外延 GaAs 剥离方法
  • DOI:
    10.4229/eupvsec20172017-4cv.4.28
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Nobuaki Kojima;Li Wang;Yoshio Ohshita;Masafumi Yamaguchi
  • 通讯作者:
    Masafumi Yamaguchi
Optical properties of layered (InxGa1-x)2Se3 buffer material deposited on GaAs(111) substrate for III-V/Silicon solar cell
用于 III-V/硅太阳能电池的 GaAs(111) 衬底上沉积的层状 (InxGa1-x)2Se3 缓冲材料的光学特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Li Wang; Hiroya Nakamura; Nobuaki Kojima; Yoshio Ohshita; Masafumi Yamaguchi
  • 通讯作者:
    Masafumi Yamaguchi
SINGLE DOMAIN GROWTH OF LAYERED In2Se3 ON Si(111) AS AN INTERMEDIATE BUFFER LAYER IN GaAs ON Si
Si(111) 上层状 In2Se3 作为 Si 上 GaAs 中间缓冲层的单域生长
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Nobuaki Kojima;Li Wang;Yoshio Ohshita;Masafumi Yamaguchi
  • 通讯作者:
    Masafumi Yamaguchi
Novel Epitaxial GaAs Lift-Off Approach via van der Waals Interface in In2Se3 Buffer Layer
通过 In2Se3 缓冲层中范德华界面的新型外延 GaAs 剥离方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Nobuaki Kojima;Li Wang;Yoshio Ohshita;Masafumi Yamaguchi
  • 通讯作者:
    Masafumi Yamaguchi
Suppression of Twin Formation in Layered In2Se3 Grown on GaAs(111)
GaAs(111) 上生长的层状 In2Se3 孪晶形成的抑制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Nobuaki Kojima; Hiroya Nakamura; Yoshio Ohshita; Masafumi Yamaguchi
  • 通讯作者:
    Masafumi Yamaguchi
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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{{ showInfoDetail.title }}

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