Microjoining technology using sintering process of 3D nanoporous structure

采用3D纳米多孔结构烧结工艺的微连接技术

基本信息

  • 批准号:
    25289241
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 12.4万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2013
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2013-04-01 至 2016-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Shear strength of Cu/Cu joints using Au nanoporous sheet for high-temperature application
使用金纳米多孔片进行高温应用的铜/铜接头的剪切强度
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Matsunaga;M.-S. Kim;H. Nishikawa;M. Saito;J. Mizuno
  • 通讯作者:
    J. Mizuno
銅材の接合方法
铜材料的连接方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Bonding Process Using Ag Nanoporous Metal for High-Temperature Application
用于高温应用的银纳米多孔金属键合工艺
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    長田実;佐々木高義;H. Nishikawa
  • 通讯作者:
    H. Nishikawa
Hybrid Au-Adhesive Bonding Using Planar Adhesive Structure for 3-D LSI
Au・Ag系ナノポーラス粉末を接着層として用いるAu-Auの低温接合に関する研究
Au/Ag纳米多孔粉末作为粘合层的Au-Au低温键合研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    三松隼太;水野潤;庄子習一;齋藤美紀子;梅津理恵;西川宏
  • 通讯作者:
    西川宏
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  • 作者:
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  • 作者:
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Hiroshi Nishikawa其他文献

Behavior of Point Contact EHL Film under Vertical Motion
点接触 EHL 薄膜在垂直运动下的行为
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yuma Mita;Hiroshi Nishikawa;Nobuyoshi Ohno
  • 通讯作者:
    Nobuyoshi Ohno
Hiroshi Nishikawa
西川宏
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hiroshi Nishikawa;Yuma Mita;Nobuyoshi Ohno;Hiroshi Nishikawa
  • 通讯作者:
    Hiroshi Nishikawa
Behaviour of Entrapped Oil Film in Point Contact EHL
点接触 EHL 中截留油膜的行为
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hiroshi Nishikawa;Yuma Mita;Nobuyoshi Ohno;Hiroshi Nishikawa
  • 通讯作者:
    Hiroshi Nishikawa
Behaviour of Entrapped Grease Film under Low Speed Sliding Motion
低速滑动运动下截留油脂膜的行为
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Krupka I.;Hartl M.;Matsuda K.;Nishikawa H.;Wang J.;Guo F.;Yang P.;Kaneta;Hiroshi Nishikawa
  • 通讯作者:
    Hiroshi Nishikawa
Behaviour of EHL Films under Impact Loading
EHL 薄膜在冲击载荷下的行为
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hiroshi Nishikawa;Nobuyoshi Ono
  • 通讯作者:
    Nobuyoshi Ono

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