Bottom-cell technology for the high-efficiency tandem thin film solar cell on a plastic substrate

塑料基板上高效串联薄膜太阳能电池的底部电池技术

基本信息

  • 批准号:
    26709019
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 9.4万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-01 至 2017-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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金属誘起層交換成長による非晶質基板上Ge 薄膜の結晶方位制御
通过金属诱导层交换生长控制非晶基底上 Ge 薄膜的晶体取向
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    都甲 薫;中沢 宏紀、大谷 直生、宇佐美 徳隆、末益 崇
  • 通讯作者:
    中沢 宏紀、大谷 直生、宇佐美 徳隆、末益 崇
Self-organization of Ge(111)/Al/glass structures through layer exchange in metal-induced crystallization
  • DOI:
    10.1039/c4ce01252f
  • 发表时间:
    2014-09
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.1
  • 作者:
    K. Toko;Koki Nakazawa;N. Saitoh;N. Yoshizawa;T. Suemasu
  • 通讯作者:
    K. Toko;Koki Nakazawa;N. Saitoh;N. Yoshizawa;T. Suemasu
Effect of Diffusion Control Layer on Reverse Al-Induced Layer Exchange Process for High-Quality Ge/Al/Glass Structure
  • DOI:
    10.1007/s11664-014-3521-7
  • 发表时间:
    2015-05
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.1
  • 作者:
    K. Nakazawa;K. Toko;T. Suemasu
  • 通讯作者:
    K. Nakazawa;K. Toko;T. Suemasu
Influence of Substrate on Crystal Orientation of Large-Grained Si Thin Films Formed by Metal-Induced Crystallization
基底对金属诱导晶化大晶粒硅薄膜晶体取向的影响
  • DOI:
    10.1155/2015/790242
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.2
  • 作者:
    K. Toko;M. Nakata;A. Okada;M. Sasase;N. Usami;and T Suemasu
  • 通讯作者:
    and T Suemasu
Effects of flexible substrate thickness on Al-induced crystallization of amorphous Ge thin films
  • DOI:
    10.1016/j.tsf.2015.03.072
  • 发表时间:
    2015-05
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.1
  • 作者:
    N. Oya;K. Toko;N. Saitoh;N. Yoshizawa;T. Suemasu
  • 通讯作者:
    N. Oya;K. Toko;N. Saitoh;N. Yoshizawa;T. Suemasu
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Physical analysis of remained oxidation byproducts as the origins of lattice distortion at the surface of 4H-SiC by Fourier-transform infrared spectroscopy
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    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Aonuki Sho;Yamashita Yudai;TOKO Kaoru;SUEMASU Takashi;Adhi Dwi Hatmanto and Koji Kita
  • 通讯作者:
    Adhi Dwi Hatmanto and Koji Kita
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Sugiyama Shu;Yamashita Yudai;TOKO Kaoru;SUEMASU Takashi;北川耕咲
  • 通讯作者:
    北川耕咲
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    10.7567/1347-4065/ab5b7a
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Aonuki Sho;Yamashita Yudai;TOKO Kaoru;SUEMASU Takashi
  • 通讯作者:
    SUEMASU Takashi
Influence of Ba-to-Si deposition rate ratios on the electrical and optical properties of B-doped BaSi<sub>2</sub> epitaxial films
Ba/Si沉积速率比对B掺杂BaSi<sub>2</sub>外延薄膜电学和光学性能的影响
  • DOI:
    10.7567/1347-4065/ab65ae
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Sugiyama Shu;Yamashita Yudai;TOKO Kaoru;SUEMASU Takashi
  • 通讯作者:
    SUEMASU Takashi

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    21H04699
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 9.4万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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  • 批准号:
    19H02663
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 9.4万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    17H07351
  • 财政年份:
    2017
  • 资助金额:
    $ 9.4万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
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  • 批准号:
    17H04918
  • 财政年份:
    2017
  • 资助金额:
    $ 9.4万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
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