Study on lateral breakdown field in GaN-based transistors

GaN基晶体管横向击穿场研究

基本信息

  • 批准号:
    16H04347
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 10.73万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2016-04-01 至 2019-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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Electron concentration in highly resistive GaN substrates co-doped with Si, C, and Fe
  • DOI:
    10.7567/jjap.57.071001
  • 发表时间:
    2018-07-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Tokuda, Hirokuni;Suzuki, Kosuke;Kuzuhara, Masaaki
  • 通讯作者:
    Kuzuhara, Masaaki
AlGaN/GaN HEMTs on Free-standing GaN substrate with Breakdown Voltage of 5 kV and Effective Lateral Critical Field of 1 MV/cm
独立式 GaN 衬底上的 AlGaN/GaN HEMT,击穿电压为 5 kV,有效横向临界场为 1 MV/cm
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    J. H. Ng;J. T. Asubar;H. Tokuda;and M. Kuzuhara
  • 通讯作者:
    and M. Kuzuhara
Correlation of AlGaN/GaN HEMTs electroluminescence characteristics with current collapse
AlGaN/GaN HEMT 电致发光特性与电流崩塌的相关性
  • DOI:
    10.7567/apex.11.024101
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S. Ohi;T. Yamazaki;J. T. Asubar;H. Tokuda;and M. Kuzuhara
  • 通讯作者:
    and M. Kuzuhara
Advanced breakdown characteristics of AlGaN/GaN HEMTs fabricated on free-standing GaN substrates
在独立式 GaN 衬底上制造的 AlGaN/GaN HEMT 的高级击穿特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yoshiaki Kanamori;Daisuke Ema;and Kazuhiro Hane;山本文子;M. Kuzuhara
  • 通讯作者:
    M. Kuzuhara
Study on breakdown field in Fe-doped semi-insulating GaN substrates
Fe掺杂半绝缘GaN衬底击穿场研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    A. Aoai;K. Suzuki;J. T. Asubar;H. Tokuda;N. Okada;K. Tadatomo;and M. Kuzuhara
  • 通讯作者:
    and M. Kuzuhara
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