Study on lateral breakdown field in GaN-based transistors
GaN基晶体管横向击穿场研究
基本信息
- 批准号:16H04347
- 负责人:
- 金额:$ 10.73万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Electron concentration in highly resistive GaN substrates co-doped with Si, C, and Fe
- DOI:10.7567/jjap.57.071001
- 发表时间:2018-07-01
- 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:Tokuda, Hirokuni;Suzuki, Kosuke;Kuzuhara, Masaaki
- 通讯作者:Kuzuhara, Masaaki
AlGaN/GaN HEMTs on Free-standing GaN substrate with Breakdown Voltage of 5 kV and Effective Lateral Critical Field of 1 MV/cm
独立式 GaN 衬底上的 AlGaN/GaN HEMT,击穿电压为 5 kV,有效横向临界场为 1 MV/cm
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:J. H. Ng;J. T. Asubar;H. Tokuda;and M. Kuzuhara
- 通讯作者:and M. Kuzuhara
Correlation of AlGaN/GaN HEMTs electroluminescence characteristics with current collapse
AlGaN/GaN HEMT 电致发光特性与电流崩塌的相关性
- DOI:10.7567/apex.11.024101
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:S. Ohi;T. Yamazaki;J. T. Asubar;H. Tokuda;and M. Kuzuhara
- 通讯作者:and M. Kuzuhara
Advanced breakdown characteristics of AlGaN/GaN HEMTs fabricated on free-standing GaN substrates
在独立式 GaN 衬底上制造的 AlGaN/GaN HEMT 的高级击穿特性
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Yoshiaki Kanamori;Daisuke Ema;and Kazuhiro Hane;山本文子;M. Kuzuhara
- 通讯作者:M. Kuzuhara
Study on breakdown field in Fe-doped semi-insulating GaN substrates
Fe掺杂半绝缘GaN衬底击穿场研究
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:A. Aoai;K. Suzuki;J. T. Asubar;H. Tokuda;N. Okada;K. Tadatomo;and M. Kuzuhara
- 通讯作者:and M. Kuzuhara
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
Kuzuhara Masaaki其他文献
Kuzuhara Masaaki的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('Kuzuhara Masaaki', 18)}}的其他基金
Study on high-voltage and high-power nitrided-based transistor amplifiers operated at quasi-millimeter wave frequencies
准毫米波频率高压大功率氮化晶体管放大器的研究
- 批准号:
19H00761 - 财政年份:2019
- 资助金额:
$ 10.73万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Study on III-Nitride Based MIS-Transistors with Low-loss and High-breakdown voltage Characteristics
低损耗高击穿电压III族氮化物MIS晶体管的研究
- 批准号:
25420328 - 财政年份:2013
- 资助金额:
$ 10.73万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
相似国自然基金
全外延ScAlN薄膜及其HEMT结构的铁电极化调控研究
- 批准号:62374002
- 批准年份:2023
- 资助金额:48 万元
- 项目类别:面上项目
基于π形栅的p-GaN HEMT阈值电压负向漂移抑制技术研究
- 批准号:62374003
- 批准年份:2023
- 资助金额:55 万元
- 项目类别:面上项目
飞秒脉冲激光诱导GaN HEMT在功率运行工况下的单粒子效应机理研究
- 批准号:62304102
- 批准年份:2023
- 资助金额:30 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
增强型HEMT中p-GaN栅双结的强场、高频物性匹配及其加固方法研究
- 批准号:62304242
- 批准年份:2023
- 资助金额:30 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
GaN基HEMT器件的金刚石近结散热及其热输运机制
- 批准号:
- 批准年份:2022
- 资助金额:30 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
相似海外基金
高Al組成GaN-HEMTのドレイン電流伝導機構に関する基礎研究
高Al组分GaN-HEMT漏极电流传导机制的基础研究
- 批准号:
24K07598 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 10.73万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
縮退窒化物のMB効果を用いたAlGaN二次元電子ガスへのコンタクトとHEMT応用
利用简并氮化物的MB效应和HEMT应用接触AlGaN二维电子气
- 批准号:
24H00310 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 10.73万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
ゲート駆動回路とGaN HEMTの単一集積化による高速化と低ノイズ化の両立
通过栅极驱动电路和GaN HEMT的单一集成实现高速和低噪声
- 批准号:
23K03793 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 10.73万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Collaborative Research: CMOS+X: 3D integration of CMOS spiking neurons with AlBN/GaN-based Ferroelectric HEMT towards artificial somatosensory system
合作研究:CMOS X:CMOS 尖峰神经元与 AlBN/GaN 基铁电 HEMT 的 3D 集成,用于人工体感系统
- 批准号:
2324781 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 10.73万 - 项目类别:
Standard Grant
Collaborative Research: CMOS+X: 3D integration of CMOS spiking neurons with AlBN/GaN-based Ferroelectric HEMT towards artificial somatosensory system
合作研究:CMOS X:CMOS 尖峰神经元与 AlBN/GaN 基铁电 HEMT 的 3D 集成,用于人工体感系统
- 批准号:
2324780 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 10.73万 - 项目类别:
Standard Grant