Study of structure modification of boron nitride films by plasma exposure - the effect of ion energy distribution function

等离子体曝光氮化硼薄膜结构改性研究——离子能量分布函数的影响

基本信息

批准号：
15H04159
负责人：
Eriguchi Koji
金额：
$ 10.32万
依托单位：
Kyoto University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15H04159/
关键词：
プラズマ結晶・組成制御ナノ材料材料加工・処理

项目摘要

项目成果

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专利数量（0）

Time-dependent dielectric breakdown characterizations of interlayer dielectric damage induced during plasma processing

等离子体处理过程中引起的层间介电损伤的时间相关介电击穿特性

DOI：
10.7567/jjap.56.06hd03
发表时间：
2017
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Kengo Shinohara;Kentaro Nishida;Kouichi Ono;and Koji Eriguchi
通讯作者：
and Koji Eriguchi

Modeling of defect generation during plasma etching and its impact on electronic device performance-plasma-induced damage

DOI：
10.1088/1361-6463/aa7523
发表时间：
2017-08-23
期刊：
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS
影响因子：
3.4
作者：
Eriguchi, Koji
通讯作者：
Eriguchi, Koji

Coatings of Boron Nitride Films for Vacuum Tribology by Reactive Plasma Assisted Coating (RePAC) Technology - Friction coefficient lowering under vacuum -

采用反应等离子体辅助涂层 (RePAC) 技术进行真空摩擦学氮化硼薄膜涂层 - 降低真空下的摩擦系数 -

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
M. Noma;K. Eriguchi;M. Yamashita;S. Hasegawa
通讯作者：
S. Hasegawa

Defect generation in electronic devices under plasma exposure: Plasma-induced damage

DOI：
10.7567/jjap.56.06ha01
发表时间：
2017-05
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
K. Eriguchi
通讯作者：
K. Eriguchi

大阪大学　産業科学研究所　量子システム創成研究分野

大阪大学产业科学研究所量子系统创造研究部

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

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Multi-energy handling of fast flavor conversions with matter collisions

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DOI：
发表时间：
2023
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0
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Kaneko Toshiro;Kato Hiromitsu;Yamada Hideaki;Yamamoto Muneaki;Yoshida Tomoko;Attri Pankaj;Koga Kazunori;Murakami Tomoyuki;Kuchitsu Kazuyuki;Ando Sugihiro;Nishikawa Yasuhiro;Tomita Kentaro;Ono Ryo;Ito Tsuyohito;Ito Atsushi M.;Eriguchi Koji;Nozaki Tomohiro;Chinami Kato
通讯作者：
Chinami Kato

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DOI：
发表时间：
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0
作者：
Kaneko Toshiro;Kato Hiromitsu;Yamada Hideaki;Yamamoto Muneaki;Yoshida Tomoko;Attri Pankaj;Koga Kazunori;Murakami Tomoyuki;Kuchitsu Kazuyuki;Ando Sugihiro;Nishikawa Yasuhiro;Tomita Kentaro;Ono Ryo;Ito Tsuyohito;Ito Atsushi M.;Eriguchi Koji;Nozaki Tomohiro;佐々木渉太，丸子高志，西牧真木夫，河合伸典，北川清太郎，金子俊郎;T. Kaneko，S. Sasaki，H. Iwamoto，K. Takashima，H. Takahashi;金子俊郎
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Si 衬底中等离子体暴露引入的缺陷分布特征

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10.1116/1.5048027
发表时间：
2019
期刊：
Journal of Vacuum Science & Technology A
影响因子：
2.9
作者：
Sato Yoshihiro;Shibata Satoshi;Uedono Akira;Urabe Keiichiro;Eriguchi Koji
通讯作者：
Eriguchi Koji

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等离子体生成和电子温度/离子能量控制的基础知识

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kaneko Toshiro;Kato Hiromitsu;Yamada Hideaki;Yamamoto Muneaki;Yoshida Tomoko;Attri Pankaj;Koga Kazunori;Murakami Tomoyuki;Kuchitsu Kazuyuki;Ando Sugihiro;Nishikawa Yasuhiro;Tomita Kentaro;Ono Ryo;Ito Tsuyohito;Ito Atsushi M.;Eriguchi Koji;Nozaki Tomohiro;佐々木渉太，丸子高志，西牧真木夫，河合伸典，北川清太郎，金子俊郎;T. Kaneko，S. Sasaki，H. Iwamoto，K. Takashima，H. Takahashi;金子俊郎;金子俊郎
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大気圧空気プラズマによる未来型農業とセンシング技術

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DOI：
发表时间：
2022
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Kaneko Toshiro;Kato Hiromitsu;Yamada Hideaki;Yamamoto Muneaki;Yoshida Tomoko;Attri Pankaj;Koga Kazunori;Murakami Tomoyuki;Kuchitsu Kazuyuki;Ando Sugihiro;Nishikawa Yasuhiro;Tomita Kentaro;Ono Ryo;Ito Tsuyohito;Ito Atsushi M.;Eriguchi Koji;Nozaki Tomohiro;佐々木渉太，丸子高志，西牧真木夫，河合伸典，北川清太郎，金子俊郎;T. Kaneko，S. Sasaki，H. Iwamoto，K. Takashima，H. Takahashi;金子俊郎;金子俊郎;佐々木渉太，高島圭介，金子俊郎;T. Kaneko，S. Sasaki，and K. Takashima;S. Sasaki，S. Osana，M. Yamaya，H. Nishimura，R. Nagatomi，and T. Kaneko;T. Kaneko，S. Sasaki，K. Takashima，A. Higashitani，S. Ando，H. Takahashi;金子俊郎;金子俊郎;佐々木渉太，高島圭介，金子俊郎;T. Kaneko，S. Sasaki，K. Takashima，A. Higashitani，S. Ando，H. Takahashi;金子俊郎
通讯作者：
金子俊郎