Effects of dielectric loss mechanisms at electron trapping sites on damage recovery and reliability improvement in thin films

电子捕获位点介电损耗机制对薄膜损伤恢复和可靠性改进的影响

基本信息

  • 批准号:
    21K18875
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 4.08万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
  • 财政年份:
    2021
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2021-07-09 至 2023-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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    Kaneko Toshiro;Kato Hiromitsu;Yamada Hideaki;Yamamoto Muneaki;Yoshida Tomoko;Attri Pankaj;Koga Kazunori;Murakami Tomoyuki;Kuchitsu Kazuyuki;Ando Sugihiro;Nishikawa Yasuhiro;Tomita Kentaro;Ono Ryo;Ito Tsuyohito;Ito Atsushi M.;Eriguchi Koji;Nozaki Tomohiro;佐々木 渉太,丸子 高志,西牧 真木夫,河合 伸典,北川 清太郎,金子 俊郎;T. Kaneko,S. Sasaki,H. Iwamoto,K. Takashima,H. Takahashi;金子 俊郎
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