Study on room temperature atomic layer deposition and its application
室温原子层沉积及其应用研究
基本信息
- 批准号:15H03536
- 负责人:
- 金额:$ 9.32万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2015
- 资助国家:日本
- 起止时间:2015-04-01 至 2018-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Temperature-controlled atomic layer deposition of GaN using plasma-excited nitrogen source
使用等离子体激发氮源进行 GaN 温控原子层沉积
- DOI:
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:P.Pungboon Pansila;Kensaku Kanomata;Bashir Ahammad;Shigeru Kubota;Fumihiko Hirose
- 通讯作者:Fumihiko Hirose
Room-temperature atomic layer deposition of zirconium oxide using plasma excited water vapor
使用等离子体激发水蒸气进行氧化锆的室温原子层沉积
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Kentaro Tokoro;Kensaku Kanomata;Masanori Miura;Bashir Ahmmad;Shigeru Kubota;Fumihiko Hirose
- 通讯作者:Fumihiko Hirose
Room-Temperature Atomic Layer Deposition of Aluminum Silicate and its Application in Dye sensitized Solar Cells
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- DOI:10.1116/1.5002716
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Takahiro Imai;Yoshiharu Mori;Kensaku Kanomata;Masanori Miura;Bashir Ahmmad;Shigeru Kubota;Fumihiko Hirose
- 通讯作者:Fumihiko Hirose
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- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Kanomata;K. Kikuchi;B. Ahmmad;S. Kubota;F. Hirose
- 通讯作者:F. Hirose
Room-temperature Atomic Layer Deposition of Al2O3 for Anticorrosion Coating using Trimethlaluminum and remote-plasma excited water vapor
三甲基铝和远程等离子体激发水蒸气室温原子层沉积 Al2O3 防腐涂层
- DOI:
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Kanomata;H. Ohba;P. Pungboon Pansila;B. Ahmmad;S. Kubota;K Hirahara;F. Hirose
- 通讯作者:F. Hirose
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Hirose Fumihiko
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- 影响因子:0
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- 发表时间:
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Tero Ryugo
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