Study on room temperature atomic layer deposition and its application

室温原子层沉积及其应用研究

基本信息

  • 批准号:
    15H03536
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 9.32万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2015
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2015-04-01 至 2018-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量(0)
Temperature-controlled atomic layer deposition of GaN using plasma-excited nitrogen source
使用等离子体激发氮源进行 GaN 温控原子层沉积
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    P.Pungboon Pansila;Kensaku Kanomata;Bashir Ahammad;Shigeru Kubota;Fumihiko Hirose
  • 通讯作者:
    Fumihiko Hirose
Room-temperature atomic layer deposition of zirconium oxide using plasma excited water vapor
使用等离子体激发水蒸气进行氧化锆的室温原子层沉积
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kentaro Tokoro;Kensaku Kanomata;Masanori Miura;Bashir Ahmmad;Shigeru Kubota;Fumihiko Hirose
  • 通讯作者:
    Fumihiko Hirose
Room-Temperature Atomic Layer Deposition of Aluminum Silicate and its Application in Dye sensitized Solar Cells
硅酸铝的室温原子层沉积及其在染料敏化太阳能电池中的应用
RT atomic layer deposition of TiO2 and its application to nanoparticle coating
TiO2 的 RT 原子层沉积及其在纳米粒子涂层中的应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Kanomata;K. Kikuchi;B. Ahmmad;S. Kubota;F. Hirose
  • 通讯作者:
    F. Hirose
Room-temperature Atomic Layer Deposition of Al2O3 for Anticorrosion Coating using Trimethlaluminum and remote-plasma excited water vapor
三甲基铝和远程等离子体激发水蒸气室温原子层沉积 Al2O3 防腐涂层
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Kanomata;H. Ohba;P. Pungboon Pansila;B. Ahmmad;S. Kubota;K Hirahara;F. Hirose
  • 通讯作者:
    F. Hirose
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Room temperature atomic layer deposition of niobium oxide using plasma excited humidified argon and its application to anticorrosion to hydrochloric acid
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  • 期刊:
  • 影响因子:
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  • 作者:
    Yoshida Kazuki;Tokoro Kentaro;Kanomata Kensaku;Miura Masanori;Saito Kentaro;Ahmmad Bashir;Kubota Shigeru;Hirose Fumihiko
  • 通讯作者:
    Hirose Fumihiko
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  • 作者:
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  • 通讯作者:
    Hirose Fumihiko
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  • 影响因子:
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  • 通讯作者:
    Hirose Fumihiko
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  • 发表时间:
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  • 作者:
    Lau Jocelyn Min Yuan;Kanomata Kensaku;Hirose Fumihiko;Tero Ryugo;棟安陸,山田剛司,加藤浩之
  • 通讯作者:
    棟安陸,山田剛司,加藤浩之
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控制氧化石墨烯淬灭脂质双层的效率
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Lau Jocelyn Min Yuan;Kanomata Kensaku;Hirose Fumihiko;Tero Ryugo
  • 通讯作者:
    Tero Ryugo

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    $ 9.32万
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    $ 9.32万
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  • 批准号:
    21J12847
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 9.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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