Analysis of reaction process in Catalyst-refered etching by means of first-principles calculations
第一性原理计算分析催化剂蚀刻反应过程
基本信息
- 批准号:15K06505
- 负责人:
- 金额:$ 3.16万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2015
- 资助国家:日本
- 起止时间:2015-04-01 至 2018-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
水とPt触媒によるSiC/GaN表面エッチングの 反応初期過程の第一原理シミュレーション
水和Pt催化剂SiC/GaN表面刻蚀初始反应过程的第一性原理模拟
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:稲垣 耕司;森川 良忠;山内 和人;中山 享;稲垣耕司
- 通讯作者:稲垣耕司
自由エネルギー表面計算を高速化するための新しいメタ ダイナミクス法の開発
开发一种新的元动力学方法来加速自由能表面计算
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:和田 一真;稲垣 耕司;森川 良忠
- 通讯作者:森川 良忠
Pt触媒を用いたGaN表面CARE加工の第一原理計算による解析 -Ga面のキンク部における反応解析-
使用Pt催化剂的GaN表面CARE加工的第一性原理计算分析 - Ga表面扭结部分的反应分析 -
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:稲垣耕司;Pho Bui Van;長谷川未貴;山内和人;森川良忠
- 通讯作者:森川良忠
First-Principles Simulations of Platinum-assisted Water Etching of SiC
铂辅助 SiC 水蚀刻的第一性原理模拟
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Takuya Kobayashi;and Atsushi Kawamoto;Bui Pho Van;Pho Van Bui;Pho Van Bui
- 通讯作者:Pho Van Bui
GaN表面CARE加工の反応メカニズムの第一原理計算による解析 ステップ/キンク部における水分子の解離吸着
利用第一性原理计算分析GaN表面CARE加工的反应机理台阶/扭结部分水分子的解离和吸附
- DOI:
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:稲垣 耕司;森川 良忠;山内 和人
- 通讯作者:山内 和人
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Inagaki Kouji其他文献
Cu2SnS3同時蒸着薄膜に対する熱処理の温度依存性
Cu2SnS3 共沉积薄膜热处理的温度依赖性
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多孔性配位高分子に吸着させた気体分子の固体NMR解析
多孔配位聚合物吸附气体分子的固态核磁共振分析
- DOI:
- 发表时间:
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- 影响因子:0
- 作者:
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- 影响因子:3.3
- 作者:
Imai Masaya;Yokota Yasuyuki;Tanabe Ichiro;Inagaki Kouji;Morikawa Yoshitada;Fukui Ken-ichi - 通讯作者:
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Insight into Trimeric Formation of Nitric Oxide on Cu(111): A Density Functional Theory Study
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- DOI:
10.1021/acs.jpcc.9b08569 - 发表时间:
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- 影响因子:0
- 作者:
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Morikawa Yoshitada
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尝试通过硫化金属前体制造新型硫化物太阳能电池
- DOI:
- 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Imai Masaya;Yokota Yasuyuki;Tanabe Ichiro;Inagaki Kouji;Morikawa Yoshitada;Fukui Ken-ichi;小林芽衣,大橋亮太,渡邉奏汰,大塚省吾,星 健史郎,茂田井大輝,米山桃太郎,荒木秀明;星 健史郎,大橋亮太,渡邉奏汰,大塚省吾,小林芽衣,茂田井大輝,米山桃太郎,荒木秀明 - 通讯作者:
星 健史郎,大橋亮太,渡邉奏汰,大塚省吾,小林芽衣,茂田井大輝,米山桃太郎,荒木秀明
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