Investigation of Plasma Source Using a Control System Equipped with a Plasma Simulator for Next-Generation Processing
使用配备等离子体模拟器的控制系统研究等离子体源以进行下一代处理
基本信息
- 批准号：23340178
- 负责人：
- 金额：$ 7.82万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2011
- 资助国家：日本
- 起止时间：2011-04-01 至 2014-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
In the manufacturing process of semiconductors, plasma processing is an essential technology, and the plasma used in the process is required to be of large diameter, low temperature, and high uniformity. This research focuses on the microwave-excited plasma that meets these needs, and the research target is a spatial profile control. Two novel techniques are introduced to control the uniformity; one is a segmented slot antenna that can change distribution of the radiated field during operation, and the other is a hyper simulation that can predict microwave power distribution necessary for a desired radial density profile. The control system including these techniques is constructed and found to be effective for the profile control of produced plasmas.
在半导体的制造过程中，等离子体处理是一项必不可少的技术，并且该过程中使用的血浆必须具有较大的直径，低温和高均匀性。这项研究的重点是满足这些需求的微波炉激发的等离子体，研究目标是空间概况控制。引入了两种新型技术以控制均匀性。一个是一个分段的插槽天线，可以在操作过程中改变辐射场的分布，另一个是一个超模拟，可以预测所需的径向密度曲线所需的微波电源分布。构建了包括这些技术的控制系统，并发现对产生的等离子体的轮廓控制有效。
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Distribution Control of Microwave Plasma by Using a Slot Antenna with Variable Radiation Field Profile
利用可变辐射场剖面缝隙天线对微波等离子体进行分布控制
- DOI：
- 发表时间：2012
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：K. Kobayashi;Y. Yasaka;H. Takeno
- 通讯作者：H. Takeno
Control of Plasma Profile in Microwave Discharges via Inverse-Problem Approach
通过反问题方法控制微波放电中的等离子体分布
- DOI：10.1063/1.4840735
- 发表时间：2013
- 期刊：
- 影响因子：1.6
- 作者：Y. Yasaka;N. Tobita;A. Tsuji
- 通讯作者：A. Tsuji
Study on a Production Control of Microwave-Excited Plasmas by an Antenna-Cavity with the Specific Structure
特定结构天线腔微波激发等离子体产生控制的研究
- DOI：
- 发表时间：2011
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：K.Ota;Y.Yasaka;N.Tobita
- 通讯作者：N.Tobita
Two-Dimensional Fluid Simulation of a Microwave-Excited Plasma Using Two Power Sources
使用两种电源的微波激发等离子体的二维流体模拟
- DOI：
- 发表时间：2012
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：R. Taniguchi;Y. Yasaka;H. Takeno
- 通讯作者：H. Takeno
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