The fundamental study of correlation between expression of VEGF and lymphmetastasis of oral squamous cell carcinoma

口腔鳞状细胞癌VEGF表达与淋巴转移相关性的基础研究

• 批准号: 20791537
• 负责人: ISHIDA Takayuki
• 金额: $ 2.75万
• 依托单位: Kyushu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2008
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2008 至 2009
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-20791537/
• 关键词: 口腔扁平上皮癌; リンパ節転移; VEGF; 低酸素; MMP; 細胞培養; 免疫染色; VEFF

The human oral squamous cell carcinoma cell lines, HSC-2 and HSC-4 cultured under normaxia (20%O_2, 5%CO_2) and hypoxia (5%O_2, 5%CO_2, 37%). The expression of VEGF was assesed by immunohistocheical staining and RT-PCR. In imumunohisotcehiminal staining, the expression of VEGF-C was stronger under hypoxia rather than normaxia of each cell line. In RT-PCR, the expression of VEGF-C and MMP-9 were increase under hypoxia. Therefore this result suggests VEGF-C induced by hypoxia may increase ability of metasatsis in oral squamous cell carcinoma.

人口腔鳞状细胞癌细胞系，HSC-2和HSC-4在Normaxia（20％O_2，5％CO_2）和缺氧（5％O_2，5％CO_2，37％）下培养。 VEGF的表达是通过免疫组织化学染色和RT-PCR的。在肌直发染色的染色中，在缺氧而不是每个细胞系的常规赛下，VEGF-C的表达更强。在RT-PCR中，在缺氧下增加了VEGF-C和MMP-9的表达。因此，该结果表明，缺氧引起的VEGF-C可能会增加口服鳞状细胞癌的能力。

项目成果

舌下腺悪性腫瘍の画像所見～耳下腺・顎下腺悪性腫瘍との比較～

舌下腺恶性肿瘤的影像表现~与腮腺/颌下腺恶性肿瘤的比较~

• 发表时间: 2009
• 作者: 石田喬之;河津俊幸;吉浦一紀
• 通讯作者: 吉浦一紀

Upregulation of Notch pathway molecules in oral squamous cell carcinoma

• DOI: 10.3892/ijo_00000558
• 发表时间: 2010-04-01
• 期刊: INTERNATIONAL JOURNAL OF ONCOLOGY
• 影响因子: 5.2
• 作者: Hijioka, Hiroshi;Setoguchi, Takao;Nakamura, Norifumi
• 通讯作者: Nakamura, Norifumi

肥厚性カンジダ症に対するイトラコナゾール内用液(ITCZ-S)の使用経験

伊曲康唑口服液（ITCZ-S）治疗肥厚性念珠菌病的经验

• 发表时间: 2009
• 作者: 石田喬之;宮脇昭彦;五味暁憲;上川善昭;中村典史
• 通讯作者: 中村典史

口腔扁平上皮癌におけるNotchシグナルの発現とその意義

Notch信号在口腔鳞癌中的表达及其意义

• 发表时间: 2008
• 作者: 比地岡浩志;宮脇昭彦;石田喬之;中村典史
• 通讯作者: 中村典史

SUVmax of FDG-PET correlates with the effects of neoadjuvant chemotherapy for oral squamous cell carcinoma.

FDG-PET 的 SUVmax 与口腔鳞状细胞癌新辅助化疗的效果相关。

• 发表时间: 2010
• 期刊: Oncology reports 23
• 作者: Akihiko Miyawaki;Ryuji Ikeda;Hroshi Hjioka;Takayuki Ishida;Mina Ushiyama;Eturo Nozoe;Norifumi Nakamura.
• 通讯作者: Norifumi Nakamura.