Quantization of surface electrons and their applications to construction of artificial atoms and molecules

表面电子的量子化及其在人造原子和分子构建中的应用

基本信息

  • 批准号:
    18360020
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 7.62万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2006
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2006 至 2008
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究では、STM探針を用いたSi(111)√3x√3-Ag表面へのナノサイズ閉曲線の書き込み、およびAg(111)超薄膜表面に核形成したナノ島への表面電子状態の量子閉じ込めにおいて、閉じ込め構造のサイズ・形状を変化させることで原子・分子様な任意の離散的電子状態を人工的に制御形で実現できることを検証した。また任意のサイズ・形状の閉じ込め構造に対する量子状態の数値計算ツールの開発した。さらに形状がナノサイズレベルの場合には、量子構造は室温においても観測できること、および閉じ込めポテンシャルを評価する際のS波近似の適用限界を明らかにし、さらにこれを超えるS+P+D波近似での評価方法を開発した。
在这项研究中,使用STM探针将纳米大小的闭合曲线写入Si(111)√3x√3-ag表面,以及纳米岛上的量子表面电子状态,该岛是超薄的核在对抗中,膜表面可以通过控制形式的大小和形状来改变封闭结构的大小和形状。此外,我们为任何大小和形状的对抗结构开发了一个量子状态计算工具。此外,如果形状处于纳米级水平,则可以在室温下观察到量子结构,并在评估限制电势时适用的S波的限制,而S+P+D波则近似评估方法。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Controlling the Magic Thickness in Electronic Growth of Atomically Flat Ag Films on Si(111)Substrates
控制 Si(111) 基板上原子级平坦银薄膜电子生长的神奇厚度
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    山田俊介;高橋琢二;Hiroyuki Hirayama
  • 通讯作者:
    Hiroyuki Hirayama
Electron Confinement in a STMlithographed Nanoscale Domain on an Si(111)√3x√3-Ag Surface at Room Temperature
室温下 Si(111)√3x√3-Ag 表面上 STM 光刻纳米级域中的电子限制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S.Minamoto;T.Ishiduka & H. Hirayama
  • 通讯作者:
    T.Ishiduka & H. Hirayama
Two-photon Resonance in Optical Second Harmonic Generation From Quantum Well States in Ultra-thin Ag Films grown on Si(111)Surfaces
Si(111) 表面生长的超薄银薄膜中量子阱态光学二次谐波产生中的双光子共振
  • DOI:
  • 发表时间:
    2006
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Furuhashi;Y. Ohshima;H. Hirayama;H.Hirayama & M.Watai
  • 通讯作者:
    H.Hirayama & M.Watai
Two-Photon Resonance in Optical Second harmonic Generation From Quantum Well States in Ultra-thin Ag Films Grown on Si(111) Surfaces
Si(111) 表面生长的超薄银薄膜中量子阱态产生光学二次谐波的双光子共振
  • DOI:
  • 发表时间:
    2006
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H.Hirayama;M.Watai
  • 通讯作者:
    M.Watai
Barrier Height Imaging of Si(111)3x1-Ag reconstructed surfaces
Si(111)3x1-Ag 重建表面的势垒高度成像
  • DOI:
  • 发表时间:
    2006
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Furuhashi;Y. Ohshima;H. Hirayama
  • 通讯作者:
    H. Hirayama
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