原子直視ホログラフィ-電子顕微鏡による超格子界面の電位分布の直接観察
使用直接原子全息电子显微镜直接观察超晶格界面的电势分布
基本信息
- 批准号:01650521
- 负责人:
- 金额:$ 1.09万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
- 财政年份:1989
- 资助国家:日本
- 起止时间:1989 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
原子直視分析電子顕微鏡(JEM-4000EX)用の電子線バイプリズムシステムを開発した。このシステムはすでに我々が開発した加熱清浄型電子線バイプリズムに微少偏向電極を取り付け、機械的振動を伴うことなく、電子線バイプリズムと試料との位置関係を調整することが出来るように設計した。このバイプリズムシステムにより反射型の電子線木にグラフィを行い、GaAs(110)面に存在するScrew転位による1原子ステップの設差を定量的に測定することに成功した。このため電導機を用いたホログラム再生用のソフトを開発し、良好な両性像が得られることを実験により確認した。次に、よりコヒ-レンスの高い電子線を得るため、熱電界放射用陰極として、LaB_6(310)陰極の動作特性を詳細に調べ、高鮮度電子鏡用陰極として、極めて優れた特性を有することを一連の輝度測定実験より確かめた。即ち、20kvで、JEM100C-FEG電子顕微鏡を用いて夫々熱電子放射と熱電界放射における輝度測定を行ったところ、後者の方が約2ケタ高い輝度の値を示した。以上の研究によって、今回開発したLAB_6(310)熱電界放射型電子鏡と微少偏向用電極をもつバイプリズムシステムを電子顕微鏡に組み込むことによって、高分解能反射型電子線ホログラフィ-が実現するとの確信を得た。このシステムによって本研究の目的とする半導体超格子界面の電位分布の定量測定が実現出来るものと考えている。今後は、LAB_6(310)陰極の最適動作条件下での実験の遂行と、電子線ホログラフィ-による像両生についての理論的取扱いについてより詳細な検討を行うことが課題である。この点についてすでに若干の結果が得られており、十分な見通しが得られている。
我们已经开发了一种用于原子直接分析显微镜(JEM-4000EX)的电子线毒素系统。该系统已被设计为能够调整电子线节奏与样品之间的位置关系,而无需机械振动,并且已经开发了较小的偏见电子电线bypronal bipe节奏。通过螺钉在GAAS(110)表面上开关,BIPE节奏系统成功地测量了单个原子步骤的差异。因此,实验证实了使用载体进行全息图再生的软件,并且可以获得良好的两性图像。接下来,为了获得具有较高coho-lewd的电子线,作为热电场辐射的大教堂,我们将详细检查LAB_6(310)的运动特性,并具有极好的特征,作为高质量电子镜像大教堂是通过一系列亮度测量实验确认的。换句话说,在20kV下,使用JEM100C-FEG电子显微镜进行热电子辐射和热电场辐射的亮度测量,后者的值高约2位。通过上述研究,我坚信,将通过融合具有LAB_6(310)药物电子镜和小偏置电极的BIPE节奏系统来实现高分辨率的反射电子线全息。我们认为,出于本研究的目的,该系统可以实现对半导体超级局部界面的潜在分布的定量测量。将来,挑战是在LAB_6(310)的最佳工作条件下进行实验,并就雕像和两栖动物的理论处理进行更详细的检查。这一点已经获得了一些结果,并且具有足够的前景。
项目成果
期刊论文数量(6)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
K.Harada,K.Ogai,R.Shimizu: "Optical Simulation for Electron Holography" Technol.Repts.Osaka University. 39. 117-128 (1989)
K.Harada、K.Ogai、R.Shimizu:“电子全息术的光学模拟”Technol.Repts.大阪大学。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
M.Takeguchi,K.Harada R.shimizu: "Observation of GaAs(110)Surface Defect by Reflection Electron Holograply" Japan J.Appl.Phys.
M.Takeguchi、K.Harada R.shimizu:“通过反射电子全息法观察 GaAs(110) 表面缺陷”Japan J.Appl.Phys。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Y.Taniguchi,T.Ikuta,H.Endoh,R.Shimizu: "Active Image Processing As Applied to High Resolution electron Microscopy" Japan J.Appl.Phys. (1990)
Y.Taniguchi、T.Ikuta、H.Endoh、R.Shimizu:“应用于高分辨率电子显微镜的主动图像处理”Japan J.Appl.Phys。
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- 作者:
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