有機ー無機複合薄膜の材料設計とその機能

有机-无机复合薄膜的材料设计与功能

基本信息

  • 批准号:
    01604024
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.28万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1989
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1989 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

1.有機金属錯体のイオンプレーテイングによる金属と有機の複合薄膜有機金属錯体モノマーとしてジクロロビス(ηーシクロペンタジエニル)チタン(Cp_2TiCl_2)を用いて、高周波イオンプレーティング法によりチタン金属を含む有機薄膜を作製した。生成した薄膜はかなりの架橋構造を有しているが、X線回折パターンからはCp_2TiCl_2の結晶構造が残存していることが明らかとなった。この薄膜の電気的特性はその抵抗率が測定雰囲気の湿度に大きく依存し、湿度センサーとしての機能性を示した。また、このCp_2TiCl_2薄膜上に1ーヘキセンをプラズマ重合して作製した積層膜は、ダイオード特性を示した。2.マイクロ波プラズマCVD法による超伝導薄膜の作製Bi、Sr、Ca、Cu系有機金属化合物のマイクロ波プラズマCVD法による酸化物高温超伝導薄膜の低温合成の可能性を検討した。プラズマ発生部を2重管にし外側にO_2、内側にArガスを導入した新しいマイクロ波(2.45GHz)プラズマCVD反応装置を設計・制作して、種々の酸化物薄膜を作製した。原料としては、Bi(C_6H_5)_3、Sr(PPM)_2、Ca(PPM)_2、Cu(HFA)_2をオイルバスで加熱し、Heをキャリアーガスとして導入した。基板にはMgO(100)を使用し、IRランプにより400℃に加熱した。それぞれBi_2O_3、SrF_2、CaF_2、CuOに結晶層を含む薄膜が合成された。次に、これらBi_2O_3、SrF_2、CaF_2、CuO薄膜をそれぞれ一層づつ4層積層した膜をアニールとすると、積層膜にTc_<onset>65Kの超伝導特性が得られた。3.以上の研究によりイオンプレーティング法により有機ー無機の複合膜の作製が可能であり、薄膜トランジスタや分子デバイス等への応用が可能であることを明らかにした。また、有機金属化合物を原料として、金属酸化物の積層膜が設計・合成されることと超伝導特性をもたせられることを明らかにした。
1。通过有机金属配合物的离子板的复合金属有机复合物薄膜含有有机薄膜的有机薄膜是通过使用二氯贝斯(η-cyclopentadadadienyl)钛(CP_2Ticticl_2)作为有机物质复合物的单体组成的。所得的薄膜具有相当大的交联结构,但是从X射线衍射模式中揭示了CP_2TICL_2的晶体结构。该薄膜的电阻率在很大程度上取决于测量气氛的湿度,表明其功能是湿度传感器。此外,该cp_2ticl_2薄膜在等离子聚合1-己烯产生的层压膜表现出二极管特征。 2。通过微波等离子体CVD制备超导薄膜,研究了基于Microwave Plasma CVD的BI,SR,CA和CU基于有机金属化合物的高温合成的低温合成的可能性。设计和制造了一个新的微波(2.45GHz)等离子体CVD反应器,其中血浆发生器加倍,在外部引入O_2,并在内部引入AR气体,并产生各种氧化物薄膜。作为原材料,将BI(C_6H_5)_3,SR(PPM)_2,CA(PPM)_2和Cu(HFA)_2在油浴中加热,并将他作为载气引入。 MGO(100)用于底物,并使用IR灯加热至400°C。分别合成了包含结晶层BI_2O_3,SRF_2,CAF_2和CUO的薄膜。接下来,当这些BI_2O_3,SRF_2,CAF_2和CUO薄膜的四层被层压时,每层都被退火,在层压层上获得了TC_ <o率> 65K的超导性能。 3。上述研究表明,可以通过离子电镀制造有机无机复合膜,并且可以将它们应用于薄膜晶体管,分子设备等。也已经揭示了可以使用有机金属化合物作为原始材料和它们具有超级构图的层压金属膜来设计和合成的层压金属氧化物膜。

项目成果

期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Y.Yoshida: "PLASMA POLYMERIZED 1,3ーBUTADIENEーN_2 THIN FILMS" Proc.Jpn.Symp.Plasma Chem.2. 225-229 (1989)
Y. Yoshida:“等离子体聚合 1,3-丁二烯-N_2 薄膜”Proc.Jpn.Symp.Plasma Chem.2 (1989)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
吉田泰彦: "プラズマイオンプレーティング" 高分子. 38. 1077 (1989)
Yasuhiko Yoshida:“等离子离子镀”聚合物。38. 1077 (1989)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
中川裕一: "ブタジエン/酸素混合ガスのプラズマ重合" 高分子論文集. 46. 209-213 (1989)
中川雄一:“丁二烯/氧气混合气体的等离子体聚合”,《高分子科学与技术》杂志,46。209-213(1989)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Y.Matsuzaki: "Charaterization of a-Si:H and aーSic:H:F heterojunctions by in situ Xーray photoelectron spectroscopy" Philosophical Magazine B. 60. 35-49 (1989)
Y.Matsuzaki:“通过原位 X 射线光电子能谱表征 a-Si:H 和 a-Sic:H:F 异质结” 哲学杂志 B. 60. 35-49 (1989)
  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
吉田泰彦: "プラズマ重合による機能性膜" 海外高分子研究. 35. 201-202 (1989)
Yasuhiko Yoshida:“等离子体聚合生产的功能膜”海外聚合物研究 35. 201-202 (1989)。
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  • 发表时间:
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    0
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  • 作者:
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