Development of single nano materials based on quantum beam and data science

基于量子束和数据科学的单纳米材料的开发

基本信息

批准号：
18H03895
负责人：
Kozawa Takahiro
金额：
$ 27.96万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
起止时间：
2018-04-01 至 2023-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（62）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Synthesis of hyperbranched polyacetals containing C-(4-t-butylbenz)calix[4]resorcinarene: Resist properties for extreme ultraviolet (EUV) lithography

含有 C-(4-t-丁基苯并)杯[4]间苯二酚的超支化聚缩醛的合成：极紫外 (EUV) 光刻的抗蚀性能

DOI：
10.1016/j.reactfunctpolym.2018.08.013
发表时间：
2018
期刊：
Reactive and Functional Polymers
影响因子：
5.1
作者：
Kudo Hiroto;Fukunaga Mari;Shiotsuki Kohei;Takeda Hiroya;Yamamoto Hiroki;Kozawa Takahiro;Watanabe Takeo
通讯作者：
Watanabe Takeo

Defect Risks in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography

用于极紫外光刻的化学增强抗蚀剂的缺陷风险

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
中村直人;Takahiro Kozawa
通讯作者：
Takahiro Kozawa

Study on dependence of transient swelling layer formation on molecular weight and dispersion of backbone polymer of chemically amplified EUV resists

化学放大型 EUV 抗蚀剂瞬态溶胀层形成对分子量和主链聚合物分散度的依赖性研究

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
Takahiro Kozawa;Kyoko Watanabe;Kyoko Matsuoka;Naoki Tanaka;Kazuki Azumagawa;Takuya Ikeda;Yoshitaka Komuro and Daisuke Kawana
通讯作者：
Yoshitaka Komuro and Daisuke Kawana

Resist thickness dependence of latent images in chemically amplified resists used for electron beam lithography

用于电子束光刻的化学放大抗蚀剂中潜像的抗蚀剂厚度依赖性

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
Gao Yunpeng;Feng Chi;Seo Tamae;Kubota Koji;Ito Hajime;T. Kozawa and T. Tamura
通讯作者：
T. Kozawa and T. Tamura

Stochasticity in EUV lithography

EUV 光刻的随机性

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Kozawa;J. J. Santillan;and T. Itani
通讯作者：
and T. Itani

DOI：
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作者：
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Kozawa Takahiro其他文献

Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resist by adding diphenyl sulfone derivatives

添加二苯砜衍生物提高化学放大型 EUV 光刻胶的灵敏度

DOI：
10.1117/12.2551865
发表时间：
2020
期刊：
Proc. SPIE, Advances in Patterning Materials and Processes XXXVII
影响因子：
0
作者：
Okamoto Kazumasa;Kawai Shunpei;Kozawa Takahiro
通讯作者：
Kozawa Takahiro

摂食シグナルを受容する胆汁酸受容体TGR5

接收进食信号的胆汁酸受体 TGR5

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
実験医学
影响因子：
0
作者：
Murakami Yoshiyuki;Ishiwari Fumitaka;Okamoto Kazumasa;Kozawa Takahiro;Saeki Akinori;佐藤隆一郎
通讯作者：
佐藤隆一郎

デュアルコム分光のための近赤外光周波数コムの可視化

用于双梳光谱的近红外光学频率梳的可视化

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kudo Hiroto;Fukunaga Mari;Yamada Teppei;Yamakawa Shinji;Watanabe Takeo;Yamamoto Hiroki;Okamoto Kazumasa;Kozawa Takahiro;加藤英毅，池田孝介，佐藤航己，郷治侑真，大久保章，稲場肇，吉井一倫，洪鋒雷
通讯作者：
加藤英毅，池田孝介，佐藤航己，郷治侑真，大久保章，稲場肇，吉井一倫，洪鋒雷

高圧相α-PbO2型TiO2エピタキシャル薄膜の平坦化

高压相α-PbO2型TiO2外延薄膜的平坦化

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Azumagawa Kazuki;Kozawa Takahiro;笹原悠輝
通讯作者：
笹原悠輝

Ultrafast　vibrational dynamics at lipid/ water interfaces　studied by 2D HD-VSFG spectroscopy

通过 2D HD-VSFG 光谱研究脂质/水界面的超快振动动力学

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kudo Hiroto;Fukunaga Mari;Shiotsuki Kohei;Takeda Hiroya;Yamamoto Hiroki;Kozawa Takahiro;Watanabe Takeo;Tahei Tahara
通讯作者：
Tahei Tahara