Cesium Removal with Magnetic Nanoparticles Surface-functionalized by Plasma Discharge in Liquid with Bubble
通过气泡液体中等离子体放电表面功能化的磁性纳米粒子去除铯
基本信息
- 批准号：25600120
- 负责人：
- 金额：$ 2.58万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份：2013
- 资助国家：日本
- 起止时间：2013-04-01 至 2015-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（34）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
, “プラズマ表面修飾磁気ナノ微粒子を用いたセシウム吸着材の開発
，“使用等离子体表面改性磁性纳米粒子开发铯吸附剂
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：T. Akama;T. Kato;T. Kaneko;岡嶋孝治;岡田 直也，楊 樹斌，張 晗，永津 雅章
- 通讯作者：岡田 直也，楊 樹斌，張 晗，永津 雅章
Capture of Cesium from Water by Using Plasma Induced Chitosan-grafted Magnetic Carbon Nanotubes
使用等离子体诱导壳聚糖接枝磁性碳纳米管从水中捕获铯
- DOI：
- 发表时间：2013
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Shubin Yang;Chou Han;Xiangke Wang and Masaaki Nagatsu
- 通讯作者：Xiangke Wang and Masaaki Nagatsu
Effect of NH Radicals on Amino Group Surface Modification onto Graphene-Encapsulated Magnetic Nanoparticles Using RF Excited NH3 Plasma
NH 自由基对使用 RF 激发 NH3 等离子体的石墨烯封装的磁性纳米粒子的氨基表面修饰的影响
- DOI：
- 发表时间：2013
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：H. Chou;E. Yang;M. Nagatsu
- 通讯作者：M. Nagatsu
プラズマによる表面処理技術の基礎と応用
等离子表面处理技术的基础和应用
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：O. Sakai;N. Kihara;Y. Nishio and Y. Hiraoka;永津雅章
- 通讯作者：永津雅章
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Development of innovative plasma process technologies to realize high-performance and multi-functional material surfaces and their applications
开发创新等离子工艺技术以实现高性能、多功能材料表面及其应用
- 批准号：
17H02804 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 2.58万 - 项目类别：
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$ 2.58万 - 项目类别：
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$ 2.58万 - 项目类别：
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細穴内面プラズマ表面加工のスマートプロセス化
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23K02003 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 2.58万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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- 批准号：
22KJ2062 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 2.58万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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脉冲激光对镁合金FSWed接头的表面改性及其脉宽效应的阐明
- 批准号：
23K04407 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 2.58万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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等离子体辅助抛光工艺高效无应变加工单晶GaN衬底
- 批准号：
22K20410 - 财政年份：2022
- 资助金额：
$ 2.58万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Research Activity Start-up