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Creation of semiconductor surfaces by catalytic tools loaded with atomically controlled graphene
通过装载原子控制石墨烯的催化工具创建半导体表面
基本信息
- 批准号：16K14133
- 负责人：
- 金额：$ 2.33万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份：2016
- 资助国家：日本
- 起止时间：2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（10）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
洗浄技術のコツ --Si表面のウェット洗浄
清洗技术技巧——硅表面湿法清洗
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：鈴木 直彦;森本 喜隆;金子 義幸;廣崎 憲一;岡崎 祐一;有馬健太
- 通讯作者：有馬健太
HOPG 基板上に形成したヒドラジン還元グラフェンナノシートの原子レベル構造観察
HOPG基底上形成的肼还原石墨烯纳米片的原子级结构观察
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：李韶賢;平野智暉;川合健太郎;山村和也;有馬健太
- 通讯作者：有馬健太
Observations of chemically reduced graphene oxide on atomic scale by scanning tunneling microscopy
通过扫描隧道显微镜在原子尺度上观察化学还原氧化石墨烯
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：李韶賢;平野智暉;川合健太郎;山村和也;有馬健太
- 通讯作者：有馬健太
Carbon Overlayer on 4H-SiC Surfaces by Plasma Oxidation at near Room Temperature Followed by Wet Etching
在近室温下通过等离子体氧化和湿法蚀刻在 4H-SiC 表面形成碳覆盖层
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：K. Hosoo;R. Ito;K. Kawai;Y. Sano;M. Morita and K. Arima
- 通讯作者：M. Morita and K. Arima
Reactivity of Water Vapor with Ultrathin GeO2/Ge and SiO2/Si Structures Investigated by Near-Ambient-Pressure X-ray Photoelectron Spectroscopy
近常压 X 射线光电子能谱研究水蒸气与超薄 GeO2/Ge 和 SiO2/Si 结构的反应性
- DOI：10.1149/08002.0131ecst
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Arima Kenta;Hosoi Takuji;Watanabe Heiji;Crumlin Ethan J
- 通讯作者：Crumlin Ethan J
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Arima Kenta其他文献
Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing
等离子辅助抛光中抛光压力和滑动速度对单晶金刚石材料去除机理的影响
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10.1016/j.diamond.2022.108899 - 发表时间：
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- 影响因子：4.1
- 作者：
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Yamamura Kazuya
Novel highly-efficient and dress-free polishing technique with plasma-assisted surface modification and dressing
新型高效免修整抛光技术，采用等离子体辅助表面改性和修整
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- 影响因子：0
- 作者：
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Yamamura Kazuya
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Innovative formation of H-terminated Si atomic sheets by atomically controlled wet science
通过原子控制湿科学创新形成氢端硅原子片
- 批准号：
19H02478 - 财政年份：2019
- 资助金额：
$ 2.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Challenge to create catalytic tool without any metallic elements
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- 批准号：
18K18808 - 财政年份：2018
- 资助金额：
$ 2.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
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15H03902 - 财政年份：2015
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相似海外基金
酸化グラフェン層間を利用した合金ナノシートの調製とそれらの触媒反応への応用
氧化石墨烯中间层合金纳米片的制备及其在催化反应中的应用
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20H02526 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 2.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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以氧化石墨烯为催化剂开发新型半导体表面加工技术
- 批准号：
20J20411 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 2.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
有機-無機材料界面での協奏的反応による原子スケール表面構造制御技術の新提案
基于有机-无机材料界面协同反应的原子尺度表面结构控制技术新方案
- 批准号：
20K22482 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 2.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
The Creation of Oxidative Transfer Fluorination Contributing to Mineralization of Environmentally Persistent Fluorinated Organic Compounds
氧化转移氟化的产生有助于环境持久性氟化有机化合物的矿化
- 批准号：
20K15328 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 2.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
Research for high-efficiency plasmon conversion using 3D-photonic nanographene and application to photo-catalysis
利用3D光子纳米石墨烯进行高效等离子体激元转换的研究及其在光催化中的应用
- 批准号：
19K22226 - 财政年份：2019
- 资助金额：
$ 2.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)