Limiting factor elucidation of channel mobility in inversion-type p-channel diamond MOSFETs

反型 p 沟道金刚石 MOSFET 中沟道迁移率的限制因素阐明

基本信息

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高温电导法分析 Al2O3/金刚石 MOS 结构的深界面陷阱

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
Xufang Zhang;Tsubasa Matsumoto;Ukyo Sakurai;Toshiharu Makino;Masahiko Ogura;Satoshi Yamasaki;Mitsuru Sometani;Dai Okamoto; Hiroshi Yano;Noriyuki Iwamuro;Takao Inokuma;and Norio Tokuda
通讯作者：
and Norio Tokuda

DOI：
10.1016/j.carbon.2020.07.019
发表时间：
2020-10
期刊：
Carbon
影响因子：
10.9
作者：
Xufang Zhang;Tsubasa Matsumoto;U. Sakurai;T. Makino;M. Ogura;S. Yamasaki;M. Sometani;D. Okamoto;H. Yano;N. Iwamuro;T. Inokuma;N. Tokuda
通讯作者：
Xufang Zhang;Tsubasa Matsumoto;U. Sakurai;T. Makino;M. Ogura;S. Yamasaki;M. Sometani;D. Okamoto;H. Yano;N. Iwamuro;T. Inokuma;N. Tokuda

DOI：
10.1016/j.carbon.2020.11.072
发表时间：
2020-12
期刊：
Carbon
影响因子：
10.9
作者：
Xufang Zhang;Tsubasa Matsumoto;Y. Nakano;H. Noguchi;H. Kato;T. Makino;D. Takeuchi;M. Ogura;S. Yamasaki;C. Nebel;T. Inokuma;N. Tokuda
通讯作者：
Xufang Zhang;Tsubasa Matsumoto;Y. Nakano;H. Noguchi;H. Kato;T. Makino;D. Takeuchi;M. Ogura;S. Yamasaki;C. Nebel;T. Inokuma;N. Tokuda

Al2O3/金刚石界面态的高温电导分析

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
Xufang Zhang;Tsubasa Matsumoto;Toshiharu Makino;Masahiko Ogura;Mitsuru Sometani;Dai Okamoto; Noriyuki Iwamuro;Satoshi Yamasaki;Christoph E. Nebel;Takao Inokuma;and Norio Tokuda
通讯作者：
and Norio Tokuda

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用于空间变化随机属性离散化的基于切比雪夫多项式的伽辽金方法

采用In0.4Ga0.6As MOSFET技术制造新型高性能射频开关器件

DOI：
10.1088/1674-4926/37/2/024005
发表时间：
2016-01
期刊：
JOURNAL OF SEMICONDUCTORS
影响因子：
5.1
作者：
Zhou Jiahui;Chang Hudong;Zhang Xufang;Yang Jingzhi;Liu Guiming;Li Haiou;Liu Honggang
通讯作者：
Liu Honggang

具有随机气动变量的风力涡轮机翼型鲁棒设计优化的有效方法

通过热丝化学气相沉积深入了解 Ta 丝对高生长速率金刚石 (100) 薄膜的温度影响

DOI：
10.1016/j.diamond.2021.108515
发表时间：
2021
期刊：
Diamond and Related Materials
影响因子：
4.1
作者：
Takamori Yue;Nagai Masatsugu;Tabakoya Taira;Nakamura Yuto;Yamasaki Satoshi;Nebel Christoph E.;Zhang Xufang;Matsumoto Tsubasa;Inokuma Takao;Tokuda Norio
通讯作者：
Tokuda Norio

使用布尔公式对 SIR 传染病模型进行有界模型测试

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
Matsumoto Tsubasa;Yamakawa Tomoya;Kato Hiromitsu;Makino Toshiharu;Ogura Masahiko;Zhang Xufang;Inokuma Takao;Yamasaki Satoshi;Tokuda Norio;花田研太
通讯作者：
花田研太