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Research Equipment Grant: Reactive Ion Etching for Device Fabrication and Materials Studies
研究设备补助金：用于设备制造和材料研究的反应离子蚀刻
基本信息
- 批准号：9500033
- 负责人：
- 金额：$ 7.85万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1995
- 资助国家：美国
- 起止时间：1995-04-01 至 1996-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
9500033 Snider A reactive ion etch system will be purchased to provide a versatile dry etch capability spurring interdisciplinary research involving several department. ***
9500033 Snider将购买一个反应性离子蚀刻系统，以提供多功能的干蚀刻能力，刺激了涉及多个部门的跨学科研究。 ***
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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