Studies of Etching Microstructures on Metals

金属蚀刻微观结构的研究

基本信息

  • 批准号:
    9006895
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 22.68万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    美国
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 财政年份:
    1990
  • 资助国家:
    美国
  • 起止时间:
    1990-08-01 至 1994-01-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

This research investigates localized etching phenomena which occur in metals and nonmetals. The program explores the factors that determine where etch pits initiate and how they grow. For instance, in aluminum and some other metals etch pits can exhibit oxide passivation at their sidewalls; this leads to etching of deep micron-sized cavities with constant sidewall widths. Sites of pitting are correlated with surface composition profiles determined by scanning transmission electron microscopy. Important variables that are controlled through systematic processing include dislocation substructure, impurity segregation, and vacancy concentration. The model system selected for these studies is aluminum etched in chloride solutions. The ultimate goal is to use the information on etch pit initiation gained from this research to preprogram specific patterns of etch pitting on metal surfaces.
这项研究研究了在金属和非金属中发生的局部蚀刻现象。 该计划探讨了决定蚀刻坑在哪里发起的因素以及它们的生长方式。 例如,在铝和其他一些金属中,蚀刻坑可以在其侧壁上表现出氧化物的钝化。这导致蚀刻具有恒定侧壁宽度的深微小腔。 点缀位点与通过扫描透射电子显微镜确定的表面组成曲线相关。 通过系统处理控制的重要变量包括脱位子结构,杂质隔离和空置浓度。 为这些研究选择的模型系统是在氯化物溶液中蚀刻的铝。 最终的目标是将有关从这项研究获得的蚀刻坑启动的信息用于金属表面上的蚀刻点的特定模式。

项目成果

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