细长管筒内壁自阳极磁控溅射电场反转离子加速新方法及高结合力膜层沉积研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:64万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:
- 结题年份:
- 批准年份:2020
- 项目状态:未结题
- 起止时间:2020至
- 项目参与者:田修波;
- 关键词:
项目摘要
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:{{ item.doi || "--"}}
- 发表时间:{{ item.publish_year || "--" }}
- 期刊:{{ item.journal_name }}
- 影响因子:{{ item.factor || "--"}}
- 作者:{{ item.authors }}
- 通讯作者:{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.authors }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.authors }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.authors }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.authors }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
其他文献
放置方向和沉积时间对Ti大颗粒分布状态的影响
- DOI:--
- 发表时间:2014
- 期刊:表面技术
- 影响因子:--
- 作者:魏永强;魏永辉;蒋志强;田修波
- 通讯作者:田修波
Characterization and mechanical properties of TiN/TiAlN multilayer coatings with different modulation periods
不同调制周期TiN/TiAlN多层涂层的表征及机械性能
- DOI:10.1007/s00170-017-0832-x
- 发表时间:2018-05
- 期刊:The International Journal of Advanced Manufacturing Technology
- 影响因子:--
- 作者:魏永强;宗晓亚;蒋志强;田修波
- 通讯作者:田修波
筒形高功率脉冲磁控溅射源的开发与放电特性
- DOI:--
- 发表时间:2016
- 期刊:物理学报
- 影响因子:--
- 作者:傅劲裕;田修波;潘锋;朱剑豪
- 通讯作者:朱剑豪
铝合金强流脉冲电子束辐照熔化层尺寸数值模拟研究
- DOI:--
- 发表时间:2015
- 期刊:真空
- 影响因子:--
- 作者:田修波;孔营;许建平;巩春志
- 通讯作者:巩春志
异步氧化模式对微弧氧化膜层结构特征的影响
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:稀有金属材料与工程
- 影响因子:--
- 作者:张欣盟;田修波;巩春志;杨士勤
- 通讯作者:杨士勤
其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:{{ item.doi || "--" }}
- 发表时间:{{ item.publish_year || "--"}}
- 期刊:{{ item.journal_name }}
- 影响因子:{{ item.factor || "--" }}
- 作者:{{ item.authors }}
- 通讯作者:{{ item.author }}
内容获取失败,请点击重试
查看分析示例
此项目为未结题,我已根据课题信息分析并撰写以下内容,帮您拓宽课题思路:
AI项目摘要
AI项目思路
AI技术路线图
请为本次AI项目解读的内容对您的实用性打分
非常不实用
非常实用
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
您认为此功能如何分析更能满足您的需求,请填写您的反馈:
田修波的其他基金
含碳气体超高电流脉冲碳弧增强辉光放电及DLC薄膜高速沉积研究
- 批准号:11875119
- 批准年份:2018
- 资助金额:66.0 万元
- 项目类别:面上项目
大面积工件自源自偏压空心阴极放电及用于高硬超厚DLC薄膜沉积研究
- 批准号:11675047
- 批准年份:2016
- 资助金额:78.0 万元
- 项目类别:面上项目
高离化率磁控溅射新方法及薄膜制备和形成机理研究
- 批准号:U1330110
- 批准年份:2013
- 资助金额:88.0 万元
- 项目类别:联合基金项目
空心阴极放电自诱导电子加速效应及深熔焊接研究
- 批准号:51175118
- 批准年份:2011
- 资助金额:62.0 万元
- 项目类别:面上项目
大体积等离子体电容耦合射频激励的极板自偏压溅射效应抑制及放电规律研究
- 批准号:10975041
- 批准年份:2009
- 资助金额:40.0 万元
- 项目类别:面上项目
微小电感耦合射频等离子体细长管筒内表面离子注入新技术及应用研究
- 批准号:10775036
- 批准年份:2007
- 资助金额:36.0 万元
- 项目类别:面上项目
一种细长管内表面离子注入新技术及其机理研究- - - - 射频放电/高压脉冲直接耦合的内源/正偏压等离子体离子注入
- 批准号:10575025
- 批准年份:2005
- 资助金额:35.0 万元
- 项目类别:面上项目
绝缘材料等离子体浸没离子注入表面优化
- 批准号:10345003
- 批准年份:2003
- 资助金额:8.0 万元
- 项目类别:专项基金项目
相似国自然基金
{{ item.name }}
- 批准号:{{ item.ratify_no }}
- 批准年份:{{ item.approval_year }}
- 资助金额:{{ item.support_num }}
- 项目类别:{{ item.project_type }}
相似海外基金
{{
item.name }}
{{ item.translate_name }}
- 批准号:{{ item.ratify_no }}
- 财政年份:{{ item.approval_year }}
- 资助金额:{{ item.support_num }}
- 项目类别:{{ item.project_type }}