一种等离子体基离子注入/沉积新方法的基本理论和技术研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:10775013
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:29.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:A3003.离子注入及离子束材料改性
- 结题年份:2010
- 批准年份:2007
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2008-01-01 至2010-12-31
- 项目参与者:康慧; 曲平; 尹蓝; 魏志国; 梁爱凤; 卢求元; 陈田田; 高原;
- 关键词:
项目摘要
提出了一种新型的等离子体基离子注入/沉积表面改性新方法- - 电子聚焦电场增强等离子体离子注入/沉积,前期的研究证明了该方法的可行性,虽然该方法是完全具有自主知识产权的新型离子注入技术,并且目前已经申请了两项国内专利和一项美国专利,但仍然需要对其基本理论进行更深入的研究。研究包括从理论上建立该新型注入/沉积方法的等离子体增强机理以及离子的分布规律模型,深入研究电子聚焦电场增强等离子体辉光增强机理和微观机制。深入研究这种方法的等离子体密度分布模型,建立电子聚焦电场增强等离子体离子注入-沉积方法中的离子分布规律等,研究其等离子体注入鞘层扩展规律。研究对进一步推进离子注入在材料表面改性领域中的应用理论和技术具有重要意义。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(13)
专著数量(0)
科研奖励数量(1)
会议论文数量(3)
专利数量(0)
Experimental investigation of discharge characteristics in enhanced glow discharge plasma immersion ion implantation
增强辉光放电等离子体浸没离子注入放电特性实验研究
- DOI:10.1016/j.physleta.2008.08.026
- 发表时间:2008-09
- 期刊:Physics Letters A
- 影响因子:2.6
- 作者:Li, Liu He;Chu, Paul K.;Fu, Ricky K. Y.;Lu, Qiu Yuan
- 通讯作者:Lu, Qiu Yuan
Investigation of plasma distribution in electron-focused electric field enhanced glow discharge plasma immersion ion implantation
电子聚焦电场增强辉光放电等离子体浸没离子注入等离子体分布研究
- DOI:10.1063/1.2969050
- 发表时间:2008-08
- 期刊:Journal of Applied Physics
- 影响因子:3.2
- 作者:Lu, Qiu Yuan;Li, Liu He;Chu, Paul K.;Fu, Ricky K. Y.
- 通讯作者:Fu, Ricky K. Y.
Mechanical properties of tungsten doped amorphous hydrogenated carbon films prepared by tungsten plasma immersion ion implantation
钨等离子体浸没离子注入制备掺钨非晶氢化碳薄膜的力学性能
- DOI:10.1016/j.endend.2009.03.065
- 发表时间:2008-09
- 期刊:Surface & Coatings Technology
- 影响因子:5.4
- 作者:Xu, M Zhang, W Wu, ZW Pu, SH Li, LH Chu, PK
- 通讯作者:Xu, M Zhang, W Wu, ZW Pu, SH Li, LH Chu, PK
Thickness uniformity and surface morphology of Fe, Ti, and Hf films produced by filtered pulsed cathodic arc deposition
过滤脉冲阴极电弧沉积制备的 Fe、Ti 和 Hf 薄膜的厚度均匀性和表面形貌
- DOI:10.1016/j.surfcoat.2008.08.026
- 发表时间:2008-12
- 期刊:Surface & Coatings Technology
- 影响因子:5.4
- 作者:Li, LH Lu, QY Fu, RKY Chu, PK
- 通讯作者:Li, LH Lu, QY Fu, RKY Chu, PK
Impact energy and retained dose uniformity in enhanced glow discharge plasma immersion ion implantation
增强辉光放电等离子体浸没离子注入中的冲击能量和保留剂量均匀性
- DOI:10.1063/1.3204697
- 发表时间:2009-08
- 期刊:Applied Physics Letters
- 影响因子:4
- 作者:Fu, Ricky K. Y.;Li, Jian Hui;Li, Liu He;Chu, Paul K.;Lu, Qiu Yuan
- 通讯作者:Lu, Qiu Yuan
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- 通讯作者:许亿
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